Studium povrchu plazmatických oxidovaných tenkých vrstev hliníku pomocí AFM

Kód výsledku v IS VaVaI

<a href="https://www.isvavai.cz/riv?ss=detail&h=RIV%2F44555601%3A13430%2F01%3A00001435" target="_blank" >RIV/44555601:13430/01:00001435 - isvavai.cz</a>

Výsledek na webu

—

DOI - Digital Object Identifier

—

Jazyk výsledku

čeština

Název v původním jazyce

Studium povrchu plazmatických oxidovaných tenkých vrstev hliníku pomocí AFM

Popis výsledku v původním jazyce

Příspěvek se zabývá studiem struktury povrchu tenkých vrstev oxidu hliníku připravených plazmatickou oxidací za různých experimentální systém umožňuje přípravu tenkých kovových vrstev vakuovým napařováním a jejich in-situ následnou plazmatickou oxidací vDC výboji kyslíku nebo směsi argonu a kyslíku. Parametry plazmatu jsou určovány pomocí optické emisní spektroskopie, vzorkovacího systému s hmotnostním spektrometrem nebo sondovou diagnostikou. Analýza povrchu byla prováděna diagnostickou technikou AFM(rozsah rastrování 25 mikrometr x 25 mikrometr a menší). Analýza povrchů vrstev oxidu hliníku připravených plazmatickou oxidací pro různé hodnoty přepětí substrátu ukazuje vliv tohoto experimentálního parametru na strukturu povrchu takto připravených vr stev.

Název v anglickém jazyce

AFM Study of Thin Alumina Layers Prepared by Plasma Oxidation

Popis výsledku anglicky

This work deals with a surface structure study of thin alumina films prepared by plasma oxidatin. The experiments were carried out in the system for plasma surface modification of thin films. The allumina films were prepared by vacuum evaporation of thinaluminum films followed by in situ plasma oxidation in DC discharge in Ar/O2 gas mixture. Plasma parameters during plasma oxidation were measured by optical emission spectroscopy, guadrupole mass spectrometry,and Langmuir electostatic probe. The surfacestructure was measured by Atomic Force Microscopy (AFM). Surface properties of thin alumina films depend on the substrate bias voltage during plasma oxidation.

Druh

J_x - Nezařazeno - Článek v odborném periodiku (Jimp, Jsc a Jost)

CEP obor

BL - Fyzika plasmatu a výboje v plynech

OECD FORD obor

—

Projekt

<a href="/cs/project/OK%20401" target="_blank" >OK 401: Studium technologických procesů za asistence plazmatu</a><br>

Návaznosti

P - Projekt vyzkumu a vyvoje financovany z verejnych zdroju (s odkazem do CEP)<br>Z - Vyzkumny zamer (s odkazem do CEZ)

Rok uplatnění

2001

Kód důvěrnosti údajů

S - Úplné a pravdivé údaje o projektu nepodléhají ochraně podle zvláštních právních předpisů

Název periodika

Československý časopis pro fyziku

ISSN

0009-0700

e-ISSN

—

Svazek periodika

51

Číslo periodika v rámci svazku

1

Stát vydavatele periodika

CZ - Česká republika

Počet stran výsledku

3

Strana od-do

59-61

Kód UT WoS článku

—

EID výsledku v databázi Scopus

—