Vše

Co hledáte?

Vše
Projekty
Výsledky výzkumu
Subjekty

Rychlé hledání

  • Projekty podpořené TA ČR
  • Významné projekty
  • Projekty s nejvyšší státní podporou
  • Aktuálně běžící projekty

Chytré vyhledávání

  • Takto najdu konkrétní +slovo
  • Takto z výsledků -slovo zcela vynechám
  • “Takto můžu najít celou frázi”

Surface Properties of the Thin SnO2 Layers Prepared by Plasma Oxidation

Identifikátory výsledku

  • Kód výsledku v IS VaVaI

    <a href="https://www.isvavai.cz/riv?ss=detail&h=RIV%2F44555601%3A13430%2F01%3A00001468" target="_blank" >RIV/44555601:13430/01:00001468 - isvavai.cz</a>

  • Výsledek na webu

  • DOI - Digital Object Identifier

Alternativní jazyky

  • Jazyk výsledku

    angličtina

  • Název v původním jazyce

    Surface Properties of the Thin SnO2 Layers Prepared by Plasma Oxidation

  • Popis výsledku v původním jazyce

    Development of gas sensors in last few years has shown an important interest in thin tin oxide films. The SnO2 is one of the most widely used materials for gas sensor applications due to their properties and their good perfomance for a detection of oxidable gases. In this work, we have studied surface properties of SnO2 thin films produced by thermal evaporation of tin films and next plasma oxidation of the metal films. The influence of technological parameters (e.g. plasma parameters, oxidation time and voltage bias applied to the substrate during oxidation) on the surface properties of the oxide films was studied by Atomic Force Microscopy (AFM).

  • Název v anglickém jazyce

    Surface Properties of the Thin SnO2 Layers Prepared by Plasma Oxidation

  • Popis výsledku anglicky

    Development of gas sensors in last few years has shown an important interest in thin tin oxide films. The SnO2 is one of the most widely used materials for gas sensor applications due to their properties and their good perfomance for a detection of oxidable gases. In this work, we have studied surface properties of SnO2 thin films produced by thermal evaporation of tin films and next plasma oxidation of the metal films. The influence of technological parameters (e.g. plasma parameters, oxidation time and voltage bias applied to the substrate during oxidation) on the surface properties of the oxide films was studied by Atomic Force Microscopy (AFM).

Klasifikace

  • Druh

    D - Stať ve sborníku

  • CEP obor

    BL - Fyzika plasmatu a výboje v plynech

  • OECD FORD obor

Návaznosti výsledku

  • Projekt

    <a href="/cs/project/OC%20527.50" target="_blank" >OC 527.50: Studium tenkých polymerních vrstev pomocí AFM a rozvoj metod diagnostiky plazmatu.</a><br>

  • Návaznosti

    P - Projekt vyzkumu a vyvoje financovany z verejnych zdroju (s odkazem do CEP)<br>Z - Vyzkumny zamer (s odkazem do CEZ)

Ostatní

  • Rok uplatnění

    2001

  • Kód důvěrnosti údajů

    S - Úplné a pravdivé údaje o projektu nepodléhají ochraně podle zvláštních právních předpisů

Údaje specifické pro druh výsledku

  • Název statě ve sborníku

    Symposium proceedings 15th International Symposium on Plasma Chemistry, ISPC - 15

  • ISBN

  • ISSN

  • e-ISSN

  • Počet stran výsledku

    6

  • Strana od-do

    3279-3284

  • Název nakladatele

    GREMI, CNRS/University of Orléans

  • Místo vydání

    Orléans

  • Místo konání akce

    Orléans

  • Datum konání akce

    13. 7. 2001

  • Typ akce podle státní příslušnosti

    WRD - Celosvětová akce

  • Kód UT WoS článku