Studium tenkých vrstev SnO2 připravených depozičními technikami za asistence plazmatu
Identifikátory výsledku
Kód výsledku v IS VaVaI
<a href="https://www.isvavai.cz/riv?ss=detail&h=RIV%2F44555601%3A13440%2F07%3A00003909" target="_blank" >RIV/44555601:13440/07:00003909 - isvavai.cz</a>
Výsledek na webu
—
DOI - Digital Object Identifier
—
Alternativní jazyky
Jazyk výsledku
angličtina
Název v původním jazyce
Study of SnO2 Thin Films Prepared by Plasma Assisted Deposition Techniques
Popis výsledku v původním jazyce
Thin films of oxide materials have high potential for device applications. Development of gas sensors in last few years has shown an important interest in thin tin oxide films. The SnO2 is one of the most widely used materials for gas sensor applicationsdue to their good performance for a detection of oxidable gases. When SnO2 layers are used in gas sensors, some features can depend on many layer parameters as thickness, cluster size, roughness, etc. Since the properties of the material are strongly dependent on the procedure of preparation, different techniques have been employed to obtain SnO2 thin films [1, 2, 3, 4]. In this work we have studied surface properties and tructure of SnO2 thin films prepared both by plasma oxidation of the thin tin films [5] and by RF or DC magnetron reactive sputtering of tin target in oxygen + argon mixture tmosphere. Tin dioxide films were prepared by RF sputtering of SnO2 target using argon or oxygen as working gas, too.
Název v anglickém jazyce
Study of SnO2 Thin Films Prepared by Plasma Assisted Deposition Techniques
Popis výsledku anglicky
Thin films of oxide materials have high potential for device applications. Development of gas sensors in last few years has shown an important interest in thin tin oxide films. The SnO2 is one of the most widely used materials for gas sensor applicationsdue to their good performance for a detection of oxidable gases. When SnO2 layers are used in gas sensors, some features can depend on many layer parameters as thickness, cluster size, roughness, etc. Since the properties of the material are strongly dependent on the procedure of preparation, different techniques have been employed to obtain SnO2 thin films [1, 2, 3, 4]. In this work we have studied surface properties and tructure of SnO2 thin films prepared both by plasma oxidation of the thin tin films [5] and by RF or DC magnetron reactive sputtering of tin target in oxygen + argon mixture tmosphere. Tin dioxide films were prepared by RF sputtering of SnO2 target using argon or oxygen as working gas, too.
Klasifikace
Druh
D - Stať ve sborníku
CEP obor
BL - Fyzika plasmatu a výboje v plynech
OECD FORD obor
—
Návaznosti výsledku
Projekt
Výsledek vznikl pri realizaci vícero projektů. Více informací v záložce Projekty.
Návaznosti
P - Projekt vyzkumu a vyvoje financovany z verejnych zdroju (s odkazem do CEP)
Ostatní
Rok uplatnění
2007
Kód důvěrnosti údajů
S - Úplné a pravdivé údaje o projektu nepodléhají ochraně podle zvláštních právních předpisů
Údaje specifické pro druh výsledku
Název statě ve sborníku
Proceedings of 16th-Symposium on Application of Plasma Processes
ISBN
978-80-89186-13-6
ISSN
—
e-ISSN
—
Počet stran výsledku
2
Strana od-do
245-246
Název nakladatele
Comenius University Press
Místo vydání
Bratislava, Slovensko
Místo konání akce
—
Datum konání akce
—
Typ akce podle státní příslušnosti
—
Kód UT WoS článku
—