Vše

Co hledáte?

Vše
Projekty
Výsledky výzkumu
Subjekty

Rychlé hledání

  • Projekty podpořené TA ČR
  • Významné projekty
  • Projekty s nejvyšší státní podporou
  • Aktuálně běžící projekty

Chytré vyhledávání

  • Takto najdu konkrétní +slovo
  • Takto z výsledků -slovo zcela vynechám
  • “Takto můžu najít celou frázi”

Studium tenkých vrstev SnO2 připravených depozičními technikami za asistence plazmatu

Identifikátory výsledku

  • Kód výsledku v IS VaVaI

    <a href="https://www.isvavai.cz/riv?ss=detail&h=RIV%2F44555601%3A13440%2F07%3A00003909" target="_blank" >RIV/44555601:13440/07:00003909 - isvavai.cz</a>

  • Výsledek na webu

  • DOI - Digital Object Identifier

Alternativní jazyky

  • Jazyk výsledku

    angličtina

  • Název v původním jazyce

    Study of SnO2 Thin Films Prepared by Plasma Assisted Deposition Techniques

  • Popis výsledku v původním jazyce

    Thin films of oxide materials have high potential for device applications. Development of gas sensors in last few years has shown an important interest in thin tin oxide films. The SnO2 is one of the most widely used materials for gas sensor applicationsdue to their good performance for a detection of oxidable gases. When SnO2 layers are used in gas sensors, some features can depend on many layer parameters as thickness, cluster size, roughness, etc. Since the properties of the material are strongly dependent on the procedure of preparation, different techniques have been employed to obtain SnO2 thin films [1, 2, 3, 4]. In this work we have studied surface properties and tructure of SnO2 thin films prepared both by plasma oxidation of the thin tin films [5] and by RF or DC magnetron reactive sputtering of tin target in oxygen + argon mixture tmosphere. Tin dioxide films were prepared by RF sputtering of SnO2 target using argon or oxygen as working gas, too.

  • Název v anglickém jazyce

    Study of SnO2 Thin Films Prepared by Plasma Assisted Deposition Techniques

  • Popis výsledku anglicky

    Thin films of oxide materials have high potential for device applications. Development of gas sensors in last few years has shown an important interest in thin tin oxide films. The SnO2 is one of the most widely used materials for gas sensor applicationsdue to their good performance for a detection of oxidable gases. When SnO2 layers are used in gas sensors, some features can depend on many layer parameters as thickness, cluster size, roughness, etc. Since the properties of the material are strongly dependent on the procedure of preparation, different techniques have been employed to obtain SnO2 thin films [1, 2, 3, 4]. In this work we have studied surface properties and tructure of SnO2 thin films prepared both by plasma oxidation of the thin tin films [5] and by RF or DC magnetron reactive sputtering of tin target in oxygen + argon mixture tmosphere. Tin dioxide films were prepared by RF sputtering of SnO2 target using argon or oxygen as working gas, too.

Klasifikace

  • Druh

    D - Stať ve sborníku

  • CEP obor

    BL - Fyzika plasmatu a výboje v plynech

  • OECD FORD obor

Návaznosti výsledku

  • Projekt

    Výsledek vznikl pri realizaci vícero projektů. Více informací v záložce Projekty.

  • Návaznosti

    P - Projekt vyzkumu a vyvoje financovany z verejnych zdroju (s odkazem do CEP)

Ostatní

  • Rok uplatnění

    2007

  • Kód důvěrnosti údajů

    S - Úplné a pravdivé údaje o projektu nepodléhají ochraně podle zvláštních právních předpisů

Údaje specifické pro druh výsledku

  • Název statě ve sborníku

    Proceedings of 16th-Symposium on Application of Plasma Processes

  • ISBN

    978-80-89186-13-6

  • ISSN

  • e-ISSN

  • Počet stran výsledku

    2

  • Strana od-do

    245-246

  • Název nakladatele

    Comenius University Press

  • Místo vydání

    Bratislava, Slovensko

  • Místo konání akce

  • Datum konání akce

  • Typ akce podle státní příslušnosti

  • Kód UT WoS článku