Vše

Co hledáte?

Vše
Projekty
Výsledky výzkumu
Subjekty

Rychlé hledání

  • Projekty podpořené TA ČR
  • Významné projekty
  • Projekty s nejvyšší státní podporou
  • Aktuálně běžící projekty

Chytré vyhledávání

  • Takto najdu konkrétní +slovo
  • Takto z výsledků -slovo zcela vynechám
  • “Takto můžu najít celou frázi”

Properties of the Thin SnO2 Layers Produces by Plasma Oxidation

Identifikátory výsledku

  • Kód výsledku v IS VaVaI

    <a href="https://www.isvavai.cz/riv?ss=detail&h=RIV%2F44555601%3A13430%2F01%3A00001469" target="_blank" >RIV/44555601:13430/01:00001469 - isvavai.cz</a>

  • Výsledek na webu

  • DOI - Digital Object Identifier

Alternativní jazyky

  • Jazyk výsledku

    angličtina

  • Název v původním jazyce

    Properties of the Thin SnO2 Layers Produces by Plasma Oxidation

  • Popis výsledku v původním jazyce

    The development of gas sensors in the last few years has shown an important interest in thin tin oxide films. The SnO2 is one of the most widely used materials for gas sensor applications due to their properties and their good perfomance for the detection of oxidable gases. When SnO2 layers are used in gas sensors, some features can depend on many layer parameters. In this work we have studied the properties of SnO2 thin films produced by thermal evaporation deposition of tin metal films and plasma oxidation of these metal films. The effect of technological parameters (e.g. plasma parameters of the oxide films was studied by Atomic Force Microscopy (AFM) and Rutherford Back Scattering (RBS).

  • Název v anglickém jazyce

    Properties of the Thin SnO2 Layers Produces by Plasma Oxidation

  • Popis výsledku anglicky

    The development of gas sensors in the last few years has shown an important interest in thin tin oxide films. The SnO2 is one of the most widely used materials for gas sensor applications due to their properties and their good perfomance for the detection of oxidable gases. When SnO2 layers are used in gas sensors, some features can depend on many layer parameters. In this work we have studied the properties of SnO2 thin films produced by thermal evaporation deposition of tin metal films and plasma oxidation of these metal films. The effect of technological parameters (e.g. plasma parameters of the oxide films was studied by Atomic Force Microscopy (AFM) and Rutherford Back Scattering (RBS).

Klasifikace

  • Druh

    J<sub>x</sub> - Nezařazeno - Článek v odborném periodiku (Jimp, Jsc a Jost)

  • CEP obor

    BL - Fyzika plasmatu a výboje v plynech

  • OECD FORD obor

Návaznosti výsledku

  • Projekt

    <a href="/cs/project/OK%20401" target="_blank" >OK 401: Studium technologických procesů za asistence plazmatu</a><br>

  • Návaznosti

    P - Projekt vyzkumu a vyvoje financovany z verejnych zdroju (s odkazem do CEP)<br>Z - Vyzkumny zamer (s odkazem do CEZ)

Ostatní

  • Rok uplatnění

    2001

  • Kód důvěrnosti údajů

    S - Úplné a pravdivé údaje o projektu nepodléhají ochraně podle zvláštních právních předpisů

Údaje specifické pro druh výsledku

  • Název periodika

    Le Vide: science, technigue et application

  • ISSN

    1266-0167

  • e-ISSN

  • Svazek periodika

    56

  • Číslo periodika v rámci svazku

    300

  • Stát vydavatele periodika

    FR - Francouzská republika

  • Počet stran výsledku

    3

  • Strana od-do

    278-280

  • Kód UT WoS článku

  • EID výsledku v databázi Scopus