AFM Investigations of SnO2 Thin Films Prepared by Plasma Oxidation
Identifikátory výsledku
Kód výsledku v IS VaVaI
<a href="https://www.isvavai.cz/riv?ss=detail&h=RIV%2F44555601%3A13430%2F01%3A00001470" target="_blank" >RIV/44555601:13430/01:00001470 - isvavai.cz</a>
Výsledek na webu
—
DOI - Digital Object Identifier
—
Alternativní jazyky
Jazyk výsledku
angličtina
Název v původním jazyce
AFM Investigations of SnO2 Thin Films Prepared by Plasma Oxidation
Popis výsledku v původním jazyce
In this work, we have studied surface properties of SnO2 thin films produced by thermal evaporation of Sn films followed by in situ plasma oxidation. The dependence of surface properties on technological parameters was studied by Atomic Force Microscopy(AFM). The experimental results describe the dependence of surface topology on substrate properties, on evaporating conditions and on parameters of plasma oxidation (e.g. plasma parameters, oxidation time and voltage bias applied to the substrate duringoxidation).
Název v anglickém jazyce
AFM Investigations of SnO2 Thin Films Prepared by Plasma Oxidation
Popis výsledku anglicky
In this work, we have studied surface properties of SnO2 thin films produced by thermal evaporation of Sn films followed by in situ plasma oxidation. The dependence of surface properties on technological parameters was studied by Atomic Force Microscopy(AFM). The experimental results describe the dependence of surface topology on substrate properties, on evaporating conditions and on parameters of plasma oxidation (e.g. plasma parameters, oxidation time and voltage bias applied to the substrate duringoxidation).
Klasifikace
Druh
D - Stať ve sborníku
CEP obor
BL - Fyzika plasmatu a výboje v plynech
OECD FORD obor
—
Návaznosti výsledku
Projekt
<a href="/cs/project/OK%20401" target="_blank" >OK 401: Studium technologických procesů za asistence plazmatu</a><br>
Návaznosti
P - Projekt vyzkumu a vyvoje financovany z verejnych zdroju (s odkazem do CEP)<br>Z - Vyzkumny zamer (s odkazem do CEZ)
Ostatní
Rok uplatnění
2001
Kód důvěrnosti údajů
S - Úplné a pravdivé údaje o projektu nepodléhají ochraně podle zvláštních právních předpisů
Údaje specifické pro druh výsledku
Název statě ve sborníku
Proc. 7th European Vacuum Conference and 3rd European Topical Conference on Hard Coiatings - EVC - 7 and ETCH - 3
ISBN
—
ISSN
—
e-ISSN
—
Počet stran výsledku
1
Strana od-do
101
Název nakladatele
Aseva
Místo vydání
Madrid
Místo konání akce
Madrid
Datum konání akce
17. 9. 2001
Typ akce podle státní příslušnosti
EUR - Evropská akce
Kód UT WoS článku
—