Vše

Co hledáte?

Vše
Projekty
Výsledky výzkumu
Subjekty

Rychlé hledání

  • Projekty podpořené TA ČR
  • Významné projekty
  • Projekty s nejvyšší státní podporou
  • Aktuálně běžící projekty

Chytré vyhledávání

  • Takto najdu konkrétní +slovo
  • Takto z výsledků -slovo zcela vynechám
  • “Takto můžu najít celou frázi”

AFM Investigations of SnO2 Thin Films Prepared by Plasma Oxidation

Identifikátory výsledku

  • Kód výsledku v IS VaVaI

    <a href="https://www.isvavai.cz/riv?ss=detail&h=RIV%2F44555601%3A13430%2F01%3A00001470" target="_blank" >RIV/44555601:13430/01:00001470 - isvavai.cz</a>

  • Výsledek na webu

  • DOI - Digital Object Identifier

Alternativní jazyky

  • Jazyk výsledku

    angličtina

  • Název v původním jazyce

    AFM Investigations of SnO2 Thin Films Prepared by Plasma Oxidation

  • Popis výsledku v původním jazyce

    In this work, we have studied surface properties of SnO2 thin films produced by thermal evaporation of Sn films followed by in situ plasma oxidation. The dependence of surface properties on technological parameters was studied by Atomic Force Microscopy(AFM). The experimental results describe the dependence of surface topology on substrate properties, on evaporating conditions and on parameters of plasma oxidation (e.g. plasma parameters, oxidation time and voltage bias applied to the substrate duringoxidation).

  • Název v anglickém jazyce

    AFM Investigations of SnO2 Thin Films Prepared by Plasma Oxidation

  • Popis výsledku anglicky

    In this work, we have studied surface properties of SnO2 thin films produced by thermal evaporation of Sn films followed by in situ plasma oxidation. The dependence of surface properties on technological parameters was studied by Atomic Force Microscopy(AFM). The experimental results describe the dependence of surface topology on substrate properties, on evaporating conditions and on parameters of plasma oxidation (e.g. plasma parameters, oxidation time and voltage bias applied to the substrate duringoxidation).

Klasifikace

  • Druh

    D - Stať ve sborníku

  • CEP obor

    BL - Fyzika plasmatu a výboje v plynech

  • OECD FORD obor

Návaznosti výsledku

  • Projekt

    <a href="/cs/project/OK%20401" target="_blank" >OK 401: Studium technologických procesů za asistence plazmatu</a><br>

  • Návaznosti

    P - Projekt vyzkumu a vyvoje financovany z verejnych zdroju (s odkazem do CEP)<br>Z - Vyzkumny zamer (s odkazem do CEZ)

Ostatní

  • Rok uplatnění

    2001

  • Kód důvěrnosti údajů

    S - Úplné a pravdivé údaje o projektu nepodléhají ochraně podle zvláštních právních předpisů

Údaje specifické pro druh výsledku

  • Název statě ve sborníku

    Proc. 7th European Vacuum Conference and 3rd European Topical Conference on Hard Coiatings - EVC - 7 and ETCH - 3

  • ISBN

  • ISSN

  • e-ISSN

  • Počet stran výsledku

    1

  • Strana od-do

    101

  • Název nakladatele

    Aseva

  • Místo vydání

    Madrid

  • Místo konání akce

    Madrid

  • Datum konání akce

    17. 9. 2001

  • Typ akce podle státní příslušnosti

    EUR - Evropská akce

  • Kód UT WoS článku