Plazmová oxidace tenkých vrstev cínu: AFM a SIMS studium

Kód výsledku v IS VaVaI
<a href="https://www.isvavai.cz/riv?ss=detail&h=RIV%2F44555601%3A13440%2F05%3A00003098" target="_blank" >RIV/44555601:13440/05:00003098 - isvavai.cz</a>
Výsledek na webu
—
DOI - Digital Object Identifier
—

Jazyk výsledku
angličtina
Název v původním jazyce
The plasma oxidation of tin thin films: AFM and SIMS study
Popis výsledku v původním jazyce
Atomic Force Microscopy (AFM) and Secondary Ion Mass Spectrometry (SIMS) have been used to characterize surface morphology and structure of SnO2 thin films prepared by plasma oxidation. The surface structure of the SnO2 thin films was found to be dependent on the plasma oxidizing mixture (oxygen /argon) parameters.
Název v anglickém jazyce
The plasma oxidation of tin thin films: AFM and SIMS study
Popis výsledku anglicky
Atomic Force Microscopy (AFM) and Secondary Ion Mass Spectrometry (SIMS) have been used to characterize surface morphology and structure of SnO2 thin films prepared by plasma oxidation. The surface structure of the SnO2 thin films was found to be dependent on the plasma oxidizing mixture (oxygen /argon) parameters.

Projekt
<a href="/cs/project/OC%20527.50" target="_blank" >OC 527.50: Studium tenkých polymerních vrstev pomocí AFM a rozvoj metod diagnostiky plazmatu.</a><br>
Návaznosti
P - Projekt vyzkumu a vyvoje financovany z verejnych zdroju (s odkazem do CEP)

Rok uplatnění
2005
Kód důvěrnosti údajů
S - Úplné a pravdivé údaje o projektu nepodléhají ochraně podle zvláštních právních předpisů

Název statě ve sborníku
Proceedings of the 15th SAPP and 3rd EU-Japan Joint Symposium on Plasma Processing
ISBN
80-223-2018-8
ISSN
—
e-ISSN
—
Počet stran výsledku
2
Strana od-do
251-252
Název nakladatele
Comenius University Press
Místo vydání
Bratislava, Slovakia
Místo konání akce
Podbánské, Slovakia
Datum konání akce
15. 1. 2005
Typ akce podle státní příslušnosti
WRD - Celosvětová akce
Kód UT WoS článku
—

Podobné výsledky(10)