Vše

Co hledáte?

Vše
Projekty
Výsledky výzkumu
Subjekty

Rychlé hledání

  • Projekty podpořené TA ČR
  • Významné projekty
  • Projekty s nejvyšší státní podporou
  • Aktuálně běžící projekty

Chytré vyhledávání

  • Takto najdu konkrétní +slovo
  • Takto z výsledků -slovo zcela vynechám
  • “Takto můžu najít celou frázi”

An Overview of the Thick Film Copper Technology for Power Electronics

Identifikátory výsledku

  • Kód výsledku v IS VaVaI

    <a href="https://www.isvavai.cz/riv?ss=detail&h=RIV%2F49777513%3A23220%2F24%3A43973306" target="_blank" >RIV/49777513:23220/24:43973306 - isvavai.cz</a>

  • Výsledek na webu

    <a href="https://ieeexplore.ieee.org/document/10712090" target="_blank" >https://ieeexplore.ieee.org/document/10712090</a>

  • DOI - Digital Object Identifier

    <a href="http://dx.doi.org/10.1109/ESTC60143.2024.10712090" target="_blank" >10.1109/ESTC60143.2024.10712090</a>

Alternativní jazyky

  • Jazyk výsledku

    angličtina

  • Název v původním jazyce

    An Overview of the Thick Film Copper Technology for Power Electronics

  • Popis výsledku v původním jazyce

    This paper is focused on thick film copper technology which is used for power electronic substrate manufacturing. This technology is based on the printing of copper pastes on ceramic substrates and can be used as an alternative solution to conventional metallization techniques for the realization of power electronic substrates. Many experiments regarding the optimization and verification of electrical and mechanical parameters of single-layer and multilayer copper films on Al2O3 and AlN substrates were performed. This paper contains a description of experiments and achieved electrical and mechanical parameters of single-layer or multilayer copper structures such as adhesion, electrical and thermal conductivity, resistivity, solderability and density etc. The paper also describes the interaction between copper films and Al2O3 or AlN substrates which has an influence on the electrical parameters of the whole substrate and also includes design rules for both single and multilayer copper to help properly design the final power substrate.

  • Název v anglickém jazyce

    An Overview of the Thick Film Copper Technology for Power Electronics

  • Popis výsledku anglicky

    This paper is focused on thick film copper technology which is used for power electronic substrate manufacturing. This technology is based on the printing of copper pastes on ceramic substrates and can be used as an alternative solution to conventional metallization techniques for the realization of power electronic substrates. Many experiments regarding the optimization and verification of electrical and mechanical parameters of single-layer and multilayer copper films on Al2O3 and AlN substrates were performed. This paper contains a description of experiments and achieved electrical and mechanical parameters of single-layer or multilayer copper structures such as adhesion, electrical and thermal conductivity, resistivity, solderability and density etc. The paper also describes the interaction between copper films and Al2O3 or AlN substrates which has an influence on the electrical parameters of the whole substrate and also includes design rules for both single and multilayer copper to help properly design the final power substrate.

Klasifikace

  • Druh

    D - Stať ve sborníku

  • CEP obor

  • OECD FORD obor

    20201 - Electrical and electronic engineering

Návaznosti výsledku

  • Projekt

    <a href="/cs/project/FW10010062" target="_blank" >FW10010062: Chytré vysokonapěťové moduly vyráběné aditivními technologiemi - SHAMAN</a><br>

  • Návaznosti

    P - Projekt vyzkumu a vyvoje financovany z verejnych zdroju (s odkazem do CEP)

Ostatní

  • Rok uplatnění

    2024

  • Kód důvěrnosti údajů

    S - Úplné a pravdivé údaje o projektu nepodléhají ochraně podle zvláštních právních předpisů

Údaje specifické pro druh výsledku

  • Název statě ve sborníku

    2024 IEEE 10th Electronics System-Integration Technology Conference (ESTC)

  • ISBN

    979-8-3503-9036-0

  • ISSN

    2687-9700

  • e-ISSN

    2687-9727

  • Počet stran výsledku

    7

  • Strana od-do

  • Název nakladatele

    IEEE

  • Místo vydání

    Piscataway

  • Místo konání akce

    Berlín, Germany

  • Datum konání akce

    11. 9. 2024

  • Typ akce podle státní příslušnosti

    WRD - Celosvětová akce

  • Kód UT WoS článku

    001340802800094