Influence of nitrogen-argon gas mixtures on reactive magnetron sputtering of hard Si-C-N films

Kód výsledku v IS VaVaI

<a href="https://www.isvavai.cz/riv?ss=detail&h=RIV%2F49777513%3A23520%2F02%3A00072775" target="_blank" >RIV/49777513:23520/02:00072775 - isvavai.cz</a>

Nalezeny alternativní kódy

RIV/68378271:_____/02:02030553 RIV/61389005:_____/02:02030553 RIV/49777513:23520/02:00000528 RIV/49777513:23520/02:00000529

Výsledek na webu

—

DOI - Digital Object Identifier

—

Jazyk výsledku

angličtina

Název v původním jazyce

Influence of nitrogen-argon gas mixtures on reactive magnetron sputtering of hard Si-C-N films

Popis výsledku v původním jazyce

Si-C-N films were deposited on p-type Si (100) substrates by dc magnetron co-sputtering of silicon and carbon using a single sputter target with variable Si/C area ratios in nitrogen-argon mixtures. The film characteristics were primarily controlled by the argon concentration (0-75%) in the gas mixture at a fixed 40% silicon fraction in the magnetron erosion track area. The total pressure and the discharge current on the magnetron target were held constant at P = 0.5 Pa, Im = 1 A, the substrate temperature was adjusted at Ts = 600 C by an ohmic heater and the rf-induced negative substrate bias voltage, Ub was -500 V.

Název v anglickém jazyce

Influence of nitrogen-argon gas mixtures on reactive magnetron sputtering of hard Si-C-N films

Popis výsledku anglicky

Si-C-N films were deposited on p-type Si (100) substrates by dc magnetron co-sputtering of silicon and carbon using a single sputter target with variable Si/C area ratios in nitrogen-argon mixtures. The film characteristics were primarily controlled by the argon concentration (0-75%) in the gas mixture at a fixed 40% silicon fraction in the magnetron erosion track area. The total pressure and the discharge current on the magnetron target were held constant at P = 0.5 Pa, Im = 1 A, the substrate temperature was adjusted at Ts = 600 C by an ohmic heater and the rf-induced negative substrate bias voltage, Ub was -500 V.

Druh

J_x - Nezařazeno - Článek v odborném periodiku (Jimp, Jsc a Jost)

CEP obor

BL - Fyzika plasmatu a výboje v plynech

OECD FORD obor

—

Projekt

<a href="/cs/project/ME%20203" target="_blank" >ME 203: Nové systémy pro přípravu tenkých vrstev v plazmatu</a><br>

Návaznosti

P - Projekt vyzkumu a vyvoje financovany z verejnych zdroju (s odkazem do CEP)<br>Z - Vyzkumny zamer (s odkazem do CEZ)

Rok uplatnění

2002

Kód důvěrnosti údajů

S - Úplné a pravdivé údaje o projektu nepodléhají ochraně podle zvláštních právních předpisů

Název periodika

Surface and Coatings Technology

ISSN

02578972

e-ISSN

—

Svazek periodika

Vol. 160

Číslo periodika v rámci svazku

leden

Stát vydavatele periodika

US - Spojené státy americké

Počet stran výsledku

8

Strana od-do

74

Kód UT WoS článku

—

EID výsledku v databázi Scopus

—