Structure and mechanical properties of magnetron sputtered Zr-Ti-Cu-N films
Identifikátory výsledku
Kód výsledku v IS VaVaI
<a href="https://www.isvavai.cz/riv?ss=detail&h=RIV%2F49777513%3A23520%2F03%3A00000070" target="_blank" >RIV/49777513:23520/03:00000070 - isvavai.cz</a>
Nalezeny alternativní kódy
RIV/49777513:23520/03:00000341 RIV/49777513:23520/03:00000342
Výsledek na webu
—
DOI - Digital Object Identifier
—
Alternativní jazyky
Jazyk výsledku
angličtina
Název v původním jazyce
Structure and mechanical properties of magnetron sputtered Zr-Ti-Cu-N films
Popis výsledku v původním jazyce
The article presents a detailed analysis of the structure-hardness relations in Zr-Cu-N and Zr-Ti-Cu-N films with low and high Ti content. These films were sputter deposited using a dc unbalanced magnetron equipped with a composed target, i.e. a round plate of diameter 100 mm made of ZrCu (90/10 at.%) alloy with a Ti (99.5%) fixing ring. The use of the Ti fixing ring of two internal diameters (70 or 50 mm) makes it possible to prepare Zr-Ti-Cu-N films with different Ti content, approximately with 15 or50 at.%, respectively. The properties of the Zr-Ti-Cu-N films were compared with those of Zr-Cu-N films reactively sputtered from the same magnetron but equipped with a ZrCu (90/10 at.%) target in a mixture of argon and nitrogen at a total press urepT =pAr+pN2 = 0.7 Pa.
Název v anglickém jazyce
Structure and mechanical properties of magnetron sputtered Zr-Ti-Cu-N films
Popis výsledku anglicky
The article presents a detailed analysis of the structure-hardness relations in Zr-Cu-N and Zr-Ti-Cu-N films with low and high Ti content. These films were sputter deposited using a dc unbalanced magnetron equipped with a composed target, i.e. a round plate of diameter 100 mm made of ZrCu (90/10 at.%) alloy with a Ti (99.5%) fixing ring. The use of the Ti fixing ring of two internal diameters (70 or 50 mm) makes it possible to prepare Zr-Ti-Cu-N films with different Ti content, approximately with 15 or50 at.%, respectively. The properties of the Zr-Ti-Cu-N films were compared with those of Zr-Cu-N films reactively sputtered from the same magnetron but equipped with a ZrCu (90/10 at.%) target in a mixture of argon and nitrogen at a total press urepT =pAr+pN2 = 0.7 Pa.
Klasifikace
Druh
J<sub>x</sub> - Nezařazeno - Článek v odborném periodiku (Jimp, Jsc a Jost)
CEP obor
BL - Fyzika plasmatu a výboje v plynech
OECD FORD obor
—
Návaznosti výsledku
Projekt
<a href="/cs/project/ME%20529" target="_blank" >ME 529: Nanostrukturní tenké vrstvy</a><br>
Návaznosti
P - Projekt vyzkumu a vyvoje financovany z verejnych zdroju (s odkazem do CEP)<br>Z - Vyzkumny zamer (s odkazem do CEZ)
Ostatní
Rok uplatnění
2003
Kód důvěrnosti údajů
S - Úplné a pravdivé údaje o projektu nepodléhají ochraně podle zvláštních právních předpisů
Údaje specifické pro druh výsledku
Název periodika
SURFACE & COATINGS TECHNOLOGY
ISSN
02578972
e-ISSN
—
Svazek periodika
Vol. 166
Číslo periodika v rámci svazku
—
Stát vydavatele periodika
NL - Nizozemsko
Počet stran výsledku
11
Strana od-do
243-253
Kód UT WoS článku
—
EID výsledku v databázi Scopus
—