Vše

Co hledáte?

Vše
Projekty
Výsledky výzkumu
Subjekty

Rychlé hledání

  • Projekty podpořené TA ČR
  • Významné projekty
  • Projekty s nejvyšší státní podporou
  • Aktuálně běžící projekty

Chytré vyhledávání

  • Takto najdu konkrétní +slovo
  • Takto z výsledků -slovo zcela vynechám
  • “Takto můžu najít celou frázi”

Properties of reactively sputtered hard Ti(Fe)Nx films

Identifikátory výsledku

  • Kód výsledku v IS VaVaI

    <a href="https://www.isvavai.cz/riv?ss=detail&h=RIV%2F49777513%3A23520%2F03%3A00000128" target="_blank" >RIV/49777513:23520/03:00000128 - isvavai.cz</a>

  • Výsledek na webu

  • DOI - Digital Object Identifier

Alternativní jazyky

  • Jazyk výsledku

    angličtina

  • Název v původním jazyce

    Properties of reactively sputtered hard Ti(Fe)Nx films

  • Popis výsledku v původním jazyce

    Hard films are successfully used to improve functional properties of cutting tools and their lifetime. Despite this fact, new demands in machining of advance materials, however, require new films with enhanced properties to be developed. This paper reports on results of a systematic investigation of properties of thin Ti(Fe)Nx, films reactively sputtered using an unbalanced dc magnetron. Main advantages of magnetron sputtering are relatively low deposition temperatures and possibility to scale up the deposition process. Important is also the deposition rate aD of the film because it decides on its price. Therefore, this paper is devoted to aD of Ti(Fe)Nx films, their structure and mechanical properties.

  • Název v anglickém jazyce

    Properties of reactively sputtered hard Ti(Fe)Nx films

  • Popis výsledku anglicky

    Hard films are successfully used to improve functional properties of cutting tools and their lifetime. Despite this fact, new demands in machining of advance materials, however, require new films with enhanced properties to be developed. This paper reports on results of a systematic investigation of properties of thin Ti(Fe)Nx, films reactively sputtered using an unbalanced dc magnetron. Main advantages of magnetron sputtering are relatively low deposition temperatures and possibility to scale up the deposition process. Important is also the deposition rate aD of the film because it decides on its price. Therefore, this paper is devoted to aD of Ti(Fe)Nx films, their structure and mechanical properties.

Klasifikace

  • Druh

    D - Stať ve sborníku

  • CEP obor

    BL - Fyzika plasmatu a výboje v plynech

  • OECD FORD obor

Návaznosti výsledku

  • Projekt

    <a href="/cs/project/ME%20529" target="_blank" >ME 529: Nanostrukturní tenké vrstvy</a><br>

  • Návaznosti

    P - Projekt vyzkumu a vyvoje financovany z verejnych zdroju (s odkazem do CEP)<br>Z - Vyzkumny zamer (s odkazem do CEZ)

Ostatní

  • Rok uplatnění

    2003

  • Kód důvěrnosti údajů

    S - Úplné a pravdivé údaje o projektu nepodléhají ochraně podle zvláštních právních předpisů

Údaje specifické pro druh výsledku

  • Název statě ve sborníku

    JUNIORMAT &#8217;03

  • ISBN

    80-214-2462-1

  • ISSN

  • e-ISSN

  • Počet stran výsledku

    4

  • Strana od-do

    12-15

  • Název nakladatele

    University of Technology

  • Místo vydání

    Brno

  • Místo konání akce

    Brno

  • Datum konání akce

    23. 9. 2003

  • Typ akce podle státní příslušnosti

    EUR - Evropská akce

  • Kód UT WoS článku