Vše

Co hledáte?

Vše
Projekty
Výsledky výzkumu
Subjekty

Rychlé hledání

  • Projekty podpořené TA ČR
  • Významné projekty
  • Projekty s nejvyšší státní podporou
  • Aktuálně běžící projekty

Chytré vyhledávání

  • Takto najdu konkrétní +slovo
  • Takto z výsledků -slovo zcela vynechám
  • “Takto můžu najít celou frázi”

High-power pulsed magnetron sputtering with a grooved target

Identifikátory výsledku

  • Kód výsledku v IS VaVaI

    <a href="https://www.isvavai.cz/riv?ss=detail&h=RIV%2F49777513%3A23520%2F03%3A00000135" target="_blank" >RIV/49777513:23520/03:00000135 - isvavai.cz</a>

  • Výsledek na webu

  • DOI - Digital Object Identifier

Alternativní jazyky

  • Jazyk výsledku

    angličtina

  • Název v původním jazyce

    High-power pulsed magnetron sputtering with a grooved target

  • Popis výsledku v původním jazyce

    Pulsed magnetron sputtering is a new progressive method of film deposition, which is applicable to master a reproducible formation of insulating films, e.g. oxides, with a high deposition rate close to that of pure metals, and also in other applications, where very high rates of film deposition and ionized coating particles are needed. We show that magnetron equiped with a grooved target makes it possible to significantly decrease the magnetron pulse voltage. Then the ionized high-rate sputtering, requiring a high average target power loading in a pulse, can be realized at the repetition frequencies in the range from 10 to 50 kHz.

  • Název v anglickém jazyce

    High-power pulsed magnetron sputtering with a grooved target

  • Popis výsledku anglicky

    Pulsed magnetron sputtering is a new progressive method of film deposition, which is applicable to master a reproducible formation of insulating films, e.g. oxides, with a high deposition rate close to that of pure metals, and also in other applications, where very high rates of film deposition and ionized coating particles are needed. We show that magnetron equiped with a grooved target makes it possible to significantly decrease the magnetron pulse voltage. Then the ionized high-rate sputtering, requiring a high average target power loading in a pulse, can be realized at the repetition frequencies in the range from 10 to 50 kHz.

Klasifikace

  • Druh

    D - Stať ve sborníku

  • CEP obor

    BL - Fyzika plasmatu a výboje v plynech

  • OECD FORD obor

Návaznosti výsledku

  • Projekt

    <a href="/cs/project/ME%20529" target="_blank" >ME 529: Nanostrukturní tenké vrstvy</a><br>

  • Návaznosti

    P - Projekt vyzkumu a vyvoje financovany z verejnych zdroju (s odkazem do CEP)<br>Z - Vyzkumny zamer (s odkazem do CEZ)

Ostatní

  • Rok uplatnění

    2003

  • Kód důvěrnosti údajů

    S - Úplné a pravdivé údaje o projektu nepodléhají ochraně podle zvláštních právních předpisů

Údaje specifické pro druh výsledku

  • Název statě ve sborníku

    JUNIORMAT '03

  • ISBN

    80-214-2462-1

  • ISSN

  • e-ISSN

  • Počet stran výsledku

    2

  • Strana od-do

    48-49

  • Název nakladatele

    University of Technology

  • Místo vydání

    Brno

  • Místo konání akce

    Brno

  • Datum konání akce

    23. 9. 2003

  • Typ akce podle státní příslušnosti

    EUR - Evropská akce

  • Kód UT WoS článku