High-power pulsed magnetron sputtering with a grooved target
Identifikátory výsledku
Kód výsledku v IS VaVaI
<a href="https://www.isvavai.cz/riv?ss=detail&h=RIV%2F49777513%3A23520%2F03%3A00000135" target="_blank" >RIV/49777513:23520/03:00000135 - isvavai.cz</a>
Výsledek na webu
—
DOI - Digital Object Identifier
—
Alternativní jazyky
Jazyk výsledku
angličtina
Název v původním jazyce
High-power pulsed magnetron sputtering with a grooved target
Popis výsledku v původním jazyce
Pulsed magnetron sputtering is a new progressive method of film deposition, which is applicable to master a reproducible formation of insulating films, e.g. oxides, with a high deposition rate close to that of pure metals, and also in other applications, where very high rates of film deposition and ionized coating particles are needed. We show that magnetron equiped with a grooved target makes it possible to significantly decrease the magnetron pulse voltage. Then the ionized high-rate sputtering, requiring a high average target power loading in a pulse, can be realized at the repetition frequencies in the range from 10 to 50 kHz.
Název v anglickém jazyce
High-power pulsed magnetron sputtering with a grooved target
Popis výsledku anglicky
Pulsed magnetron sputtering is a new progressive method of film deposition, which is applicable to master a reproducible formation of insulating films, e.g. oxides, with a high deposition rate close to that of pure metals, and also in other applications, where very high rates of film deposition and ionized coating particles are needed. We show that magnetron equiped with a grooved target makes it possible to significantly decrease the magnetron pulse voltage. Then the ionized high-rate sputtering, requiring a high average target power loading in a pulse, can be realized at the repetition frequencies in the range from 10 to 50 kHz.
Klasifikace
Druh
D - Stať ve sborníku
CEP obor
BL - Fyzika plasmatu a výboje v plynech
OECD FORD obor
—
Návaznosti výsledku
Projekt
<a href="/cs/project/ME%20529" target="_blank" >ME 529: Nanostrukturní tenké vrstvy</a><br>
Návaznosti
P - Projekt vyzkumu a vyvoje financovany z verejnych zdroju (s odkazem do CEP)<br>Z - Vyzkumny zamer (s odkazem do CEZ)
Ostatní
Rok uplatnění
2003
Kód důvěrnosti údajů
S - Úplné a pravdivé údaje o projektu nepodléhají ochraně podle zvláštních právních předpisů
Údaje specifické pro druh výsledku
Název statě ve sborníku
JUNIORMAT '03
ISBN
80-214-2462-1
ISSN
—
e-ISSN
—
Počet stran výsledku
2
Strana od-do
48-49
Název nakladatele
University of Technology
Místo vydání
Brno
Místo konání akce
Brno
Datum konání akce
23. 9. 2003
Typ akce podle státní příslušnosti
EUR - Evropská akce
Kód UT WoS článku
—