Reaktivní plazmová depozice tvrdých vrstev Si-(B)C-N a jejich vlastnosti

Kód výsledku v IS VaVaI

<a href="https://www.isvavai.cz/riv?ss=detail&h=RIV%2F49777513%3A23520%2F04%3A00000004" target="_blank" >RIV/49777513:23520/04:00000004 - isvavai.cz</a>

Výsledek na webu

—

DOI - Digital Object Identifier

—

Jazyk výsledku

čeština

Název v původním jazyce

Reaktivní plazmová depozice tvrdých vrstev Si-(B)C-N a jejich vlastnosti

Popis výsledku v původním jazyce

Předložená disertační práce se zabývá přípravou a popisem vlastností tenkých vrstev nových keramických materiálů ze systému Si-(B)C-N. Vrstvy Si-B-C-N byly naneseny metodou reaktivního magnetronového naprašování ze složeného terče ve výbojové směsi dusík

Název v anglickém jazyce

Reactive plasma deposition of hard Si-(B)-C-N films and their properties

Popis výsledku anglicky

This thesis is focused on preparation and characterization of thin films from the quaternary Si-(B)-C-N system using modern physical low-temperature plasma technologies. Deposition of Si-B-C-N films on silicon substrates was carried out by reactive dc m

Druh

B - Odborná kniha

CEP obor

BL - Fyzika plasmatu a výboje v plynech

OECD FORD obor

—

Projekt

—

Návaznosti

Z - Vyzkumny zamer (s odkazem do CEZ)

Rok uplatnění

2004

Kód důvěrnosti údajů

S - Úplné a pravdivé údaje o projektu nepodléhají ochraně podle zvláštních právních předpisů

ISBN

—

Počet stran knihy

91

Název nakladatele

—

Místo vydání

Plzeň

Kód UT WoS knihy

—