Reaktivní magnetronové naprašování tvrdých Si-B-C-N vrstev s oxidační odolností za vysokých teplot

Kód výsledku v IS VaVaI

<a href="https://www.isvavai.cz/riv?ss=detail&h=RIV%2F49777513%3A23520%2F05%3A00000113" target="_blank" >RIV/49777513:23520/05:00000113 - isvavai.cz</a>

Nalezeny alternativní kódy

RIV/61389005:_____/05:00029512

Výsledek na webu

—

DOI - Digital Object Identifier

—

Jazyk výsledku

angličtina

Název v původním jazyce

Reactive magnetron sputtering of hard Si-B-C-N films with a high-temperature oxidation resistance

Popis výsledku v původním jazyce

Based on the results obtained for C-N and Si-C-N films, a systematic invetsigation of reactive magnetron sputtering of hard quaternary Si-B-C-N materials has been carried out. The Si-B-C-N films were deposited on p-type Si substrates by dc magnetron co-s

Název v anglickém jazyce

Reactive magnetron sputtering of hard Si-B-C-N films with a high-temperature oxidation resistance

Popis výsledku anglicky

Based on the results obtained for C-N and Si-C-N films, a systematic invetsigation of reactive magnetron sputtering of hard quaternary Si-B-C-N materials has been carried out. The Si-B-C-N films were deposited on p-type Si substrates by dc magnetron co-s

Druh

J_x - Nezařazeno - Článek v odborném periodiku (Jimp, Jsc a Jost)

CEP obor

BL - Fyzika plasmatu a výboje v plynech

OECD FORD obor

—

Projekt

—

Návaznosti

Z - Vyzkumny zamer (s odkazem do CEZ)

Rok uplatnění

2005

Kód důvěrnosti údajů

S - Úplné a pravdivé údaje o projektu nepodléhají ochraně podle zvláštních právních předpisů

Název periodika

Journal of Vacuum Science and Technology A

ISSN

0734-2101

e-ISSN

—

Svazek periodika

23

Číslo periodika v rámci svazku

—

Stát vydavatele periodika

US - Spojené státy americké

Počet stran výsledku

10

Strana od-do

1513-1522

Kód UT WoS článku

—

EID výsledku v databázi Scopus

—