Vysokovýkonové pulzní dc magnetronové výboje pro ionizované vysokorychlostní naprašování tenkých vrstev

Kód výsledku v IS VaVaI

<a href="https://www.isvavai.cz/riv?ss=detail&h=RIV%2F49777513%3A23520%2F04%3A00000152" target="_blank" >RIV/49777513:23520/04:00000152 - isvavai.cz</a>

Výsledek na webu

—

DOI - Digital Object Identifier

—

Jazyk výsledku

angličtina

Název v původním jazyce

High-power pulsed dc magnetron discharges for ionized high-rate sputtering of thin films

Popis výsledku v původním jazyce

We report on time-resolved optical emission spectroscopy, and time- and energy-resolved mass spectroscopy, in high-power pulsed dc magnetron discharges generated using an unbalanced circular magnetron with a planar copper target of 100mm in diameter at a

Název v anglickém jazyce

High-power pulsed dc magnetron discharges for ionized high-rate sputtering of thin films

Popis výsledku anglicky

We report on time-resolved optical emission spectroscopy, and time- and energy-resolved mass spectroscopy, in high-power pulsed dc magnetron discharges generated using an unbalanced circular magnetron with a planar copper target of 100mm in diameter at a

Druh

D - Stať ve sborníku

CEP obor

BL - Fyzika plasmatu a výboje v plynech

OECD FORD obor

—

Projekt

<a href="/cs/project/ME%20673" target="_blank" >ME 673: Nové zdroje plazmatu pro vytváření tenkých vrstev</a><br>

Návaznosti

P - Projekt vyzkumu a vyvoje financovany z verejnych zdroju (s odkazem do CEP)<br>Z - Vyzkumny zamer (s odkazem do CEZ)

Rok uplatnění

2004

Kód důvěrnosti údajů

S - Úplné a pravdivé údaje o projektu nepodléhají ochraně podle zvláštních právních předpisů

Název statě ve sborníku

47th Annual SVC Technical Conference Proceedings

ISBN

—

ISSN

—

e-ISSN

—

Počet stran výsledku

6

Strana od-do

426-431

Název nakladatele

Society of Vacuum Coaters

Místo vydání

Dallas

Místo konání akce

Dallas

Datum konání akce

24. 4. 2004

Typ akce podle státní příslušnosti

WRD - Celosvětová akce

Kód UT WoS článku

—