Použití chemického odleptávání pro měření zbytkových napětí v tenkých povlacích metodou úběru

Kód výsledku v IS VaVaI

<a href="https://www.isvavai.cz/riv?ss=detail&h=RIV%2F49777513%3A23520%2F06%3A00000191" target="_blank" >RIV/49777513:23520/06:00000191 - isvavai.cz</a>

Nalezeny alternativní kódy

RIV/49777513:23640/06:00000106

Výsledek na webu

—

DOI - Digital Object Identifier

—

Jazyk výsledku

angličtina

Název v původním jazyce

Using of chemical etching for layer removal residual stress measurement in thin films

Popis výsledku v původním jazyce

The layer removal method is used for the residual stress measurement in thin Ti Films. Concentrated hydrochloric acid is used for the successive layer removal of the coating. The etching process is analyzed. Removed layer thickness is measured and the residual stress of the Ti film is determined based on changes of the samples deflection.

Název v anglickém jazyce

Using of chemical etching for layer removal residual stress measurement in thin films

Popis výsledku anglicky

The layer removal method is used for the residual stress measurement in thin Ti Films. Concentrated hydrochloric acid is used for the successive layer removal of the coating. The etching process is analyzed. Removed layer thickness is measured and the residual stress of the Ti film is determined based on changes of the samples deflection.

Druh

D - Stať ve sborníku

CEP obor

JP - Průmyslové procesy a zpracování

OECD FORD obor

—

Projekt

—

Návaznosti

Z - Vyzkumny zamer (s odkazem do CEZ)

Rok uplatnění

2006

Kód důvěrnosti údajů

S - Úplné a pravdivé údaje o projektu nepodléhají ochraně podle zvláštních právních předpisů

Název statě ve sborníku

Hutnícka analytika 2006

ISBN

80-86380-34-3

ISSN

—

e-ISSN

—

Počet stran výsledku

5

Strana od-do

55-59

Název nakladatele

2 THETA

Místo vydání

Český Těšín

Místo konání akce

Hokovce, Slovensko

Datum konání akce

1. 1. 2006

Typ akce podle státní příslušnosti

EUR - Evropská akce

Kód UT WoS článku

—