Vlastnosti reaktivně naprašovaných W-Si-N vrstev

Kód výsledku v IS VaVaI

<a href="https://www.isvavai.cz/riv?ss=detail&h=RIV%2F49777513%3A23520%2F06%3A00000291" target="_blank" >RIV/49777513:23520/06:00000291 - isvavai.cz</a>

Nalezeny alternativní kódy

RIV/49777513:23520/06:00000292

Výsledek na webu

—

DOI - Digital Object Identifier

—

Jazyk výsledku

angličtina

Název v původním jazyce

Properties of reactively sputtered W-Si-N films

Popis výsledku v původním jazyce

This article reports on the d.c. reactive magnetron sputter deposition of W-Si-N films with a high content of Si and their physical and mechanical properties. Films were characterized by XRD, EDX, microhardness, elastic recovery, resistance to plastic deformation, macrostress and thermogravimetry.

Název v anglickém jazyce

Properties of reactively sputtered W-Si-N films

Popis výsledku anglicky

This article reports on the d.c. reactive magnetron sputter deposition of W-Si-N films with a high content of Si and their physical and mechanical properties. Films were characterized by XRD, EDX, microhardness, elastic recovery, resistance to plastic deformation, macrostress and thermogravimetry.

Druh

J_x - Nezařazeno - Článek v odborném periodiku (Jimp, Jsc a Jost)

CEP obor

BL - Fyzika plasmatu a výboje v plynech

OECD FORD obor

—

Projekt

<a href="/cs/project/ME%20529" target="_blank" >ME 529: Nanostrukturní tenké vrstvy</a><br>

Návaznosti

P - Projekt vyzkumu a vyvoje financovany z verejnych zdroju (s odkazem do CEP)<br>Z - Vyzkumny zamer (s odkazem do CEZ)

Rok uplatnění

2006

Kód důvěrnosti údajů

S - Úplné a pravdivé údaje o projektu nepodléhají ochraně podle zvláštních právních předpisů

Název periodika

Surface and Coatings Technology

ISSN

0257-8972

e-ISSN

—

Svazek periodika

—

Číslo periodika v rámci svazku

—

Stát vydavatele periodika

NL - Nizozemsko

Počet stran výsledku

10

Strana od-do

3886

Kód UT WoS článku

—

EID výsledku v databázi Scopus

—