Magnetronové naprašování vrstev TiOxOy

Kód výsledku v IS VaVaI

<a href="https://www.isvavai.cz/riv?ss=detail&h=RIV%2F49777513%3A23520%2F06%3A00000459" target="_blank" >RIV/49777513:23520/06:00000459 - isvavai.cz</a>

Výsledek na webu

—

DOI - Digital Object Identifier

—

Jazyk výsledku

angličtina

Název v původním jazyce

Magnetron sputtering of TiOxNy films

Popis výsledku v původním jazyce

This article reports on the characterization and preparation of N-doped titanium dioxide fims by reactive magnetron sputtering from Ti targets in a mixture of Ar/O2/N2 atmosphere on unheated glass substrates. A dual magnetron system supplied by a dc bipolar pulsed power source was used to sputter the TiOxNy films.

Název v anglickém jazyce

Magnetron sputtering of TiOxNy films

Popis výsledku anglicky

This article reports on the characterization and preparation of N-doped titanium dioxide fims by reactive magnetron sputtering from Ti targets in a mixture of Ar/O2/N2 atmosphere on unheated glass substrates. A dual magnetron system supplied by a dc bipolar pulsed power source was used to sputter the TiOxNy films.

Druh

J_x - Nezařazeno - Článek v odborném periodiku (Jimp, Jsc a Jost)

CEP obor

BL - Fyzika plasmatu a výboje v plynech

OECD FORD obor

—

Projekt

—

Návaznosti

Z - Vyzkumny zamer (s odkazem do CEZ)

Rok uplatnění

2006

Kód důvěrnosti údajů

S - Úplné a pravdivé údaje o projektu nepodléhají ochraně podle zvláštních právních předpisů

Název periodika

Vacuum

ISSN

0042-207

e-ISSN

—

Svazek periodika

—

Číslo periodika v rámci svazku

—

Stát vydavatele periodika

US - Spojené státy americké

Počet stran výsledku

6

Strana od-do

285

Kód UT WoS článku

—

EID výsledku v databázi Scopus

—