Nové kvaternární tenké vrstvy Si-B-C-N připravené reaktivním magnetronovým naprašováním
Popis výsledku
Článek se zabývá novými kvaternárními materiály Si-B-C-N připravenými ve formě tenkých vrstev pomocí reaktivního magnetronového rozprašování křemíku, uhlíku a bóru ve směsích dusík-argon. Materiály vykázaly při amorfní nanostruktuře velmi nízké tlakové pnutí, dobrou adhezi k substrátům, vysokou tvrdost a elastické zotavení a extrémně vysokou oxidační odolnost ve vzduchu za teplot do 1350°C.
Klíčová slova
Si-B-C-Nmagnetron co-sputteringmechanical propertieshigh-temperature stabilitynanostructure
Identifikátory výsledku
Kód výsledku v IS VaVaI
Výsledek na webu
—
DOI - Digital Object Identifier
—
Alternativní jazyky
Jazyk výsledku
angličtina
Název v původním jazyce
New quaternary Si-B-C-N films prepared by reactive magnetron sputtering
Popis výsledku v původním jazyce
Novel quaternary Si-B-C-N films were fabricated using dc magnetron co-sputtering of silicon, boron and carbon from a single C-Si-B or B4C-Si target in nitrogen-argon gas mixtures at substrate temperatures of 180-350 °C. The films, typically 2-5 µmthick, were found to be amorphous in nanostructure with a low compressive stress (around 1 GPa) and good adhesion to substrates. They exhibited high hardness (up to 45 GPa) and elastic recovery (up to 85%), and extremely high oxidation resistance in airat elevated temperatures (up to a 1350 °C substrate limit).
Název v anglickém jazyce
New quaternary Si-B-C-N films prepared by reactive magnetron sputtering
Popis výsledku anglicky
Novel quaternary Si-B-C-N films were fabricated using dc magnetron co-sputtering of silicon, boron and carbon from a single C-Si-B or B4C-Si target in nitrogen-argon gas mixtures at substrate temperatures of 180-350 °C. The films, typically 2-5 µmthick, were found to be amorphous in nanostructure with a low compressive stress (around 1 GPa) and good adhesion to substrates. They exhibited high hardness (up to 45 GPa) and elastic recovery (up to 85%), and extremely high oxidation resistance in airat elevated temperatures (up to a 1350 °C substrate limit).
Klasifikace
Druh
Jx - Nezařazeno - Článek v odborném periodiku (Jimp, Jsc a Jost)
CEP obor
BL - Fyzika plasmatu a výboje v plynech
OECD FORD obor
—
Návaznosti výsledku
Projekt
—
Návaznosti
Z - Vyzkumny zamer (s odkazem do CEZ)
Ostatní
Rok uplatnění
2006
Kód důvěrnosti údajů
S - Úplné a pravdivé údaje o projektu nepodléhají ochraně podle zvláštních právních předpisů
Údaje specifické pro druh výsledku
Název periodika
Transactions of the Materials Research Society of Japan
ISSN
1382-3469
e-ISSN
—
Svazek periodika
—
Číslo periodika v rámci svazku
—
Stát vydavatele periodika
JP - Japonsko
Počet stran výsledku
5
Strana od-do
447
Kód UT WoS článku
—
EID výsledku v databázi Scopus
—
Druh výsledku
Jx - Nezařazeno - Článek v odborném periodiku (Jimp, Jsc a Jost)
CEP
BL - Fyzika plasmatu a výboje v plynech
Rok uplatnění
2006