Mechanické a optické vlastnosti vrstev kvaternárního systému Si-B-C-N
Popis výsledku
Metodou reaktivního magnetronového naprašování byly připraveny vrstvy systému Si-B-C-N. Práce se zaměřuje na hledání vztahů mezi procesními parametry, prvkovým složením, vazebnou strukturou a mechanickými, tribologickými a optickými vlastnostmi připravených materiálů. Vrstvy vykazují vysokou tvrdost (do 36 GPa), dobrou adhezi k substrátu Si(100) při nízkém tlakovém pnutí (1.0-1.6 GPa), index lomu od 1.8 do 2.2 (při 550 nm) a extinkční koeficient od 2 x 10"4 do 0.3. Díky těmto vlastnostem jsou vrstvy Si-B-C-N vhodné pro použití v tribologických a optoelektronických aplikacích.
Klíčová slova
Si-B-C-N filmsMagnetron sputteringElemental compositionBonding structureTribological and optical propertiesHardnessStress
Identifikátory výsledku
Kód výsledku v IS VaVaI
Výsledek na webu
—
DOI - Digital Object Identifier
—
Alternativní jazyky
Jazyk výsledku
angličtina
Název v původním jazyce
Mechanical and optical properties of quaternary Si-B-C-N films prepared by reactive magnetron sputtering
Popis výsledku v původním jazyce
Quaternary Si-B-C-N films were prepared using reactive direct current magnetron co-sputtering. We focused on complex relationships between process parameters, elemental composition, bonding structure, and mechanical, tribological and optical properties of the deposited materials. The films exhibit a high hardness (up to 36 GPa) and a good adhesion to Si(100) substrates at a low compressive stress (1.0-1.6 GPa), refractive index ranging from 1.8 to 2.2 (at 550 nm) and an extinction coefficient between 2x 10"4 and 0.3. The Si-B-C-N films appear attractive for both tribological and optoelectronic applications.
Název v anglickém jazyce
Mechanical and optical properties of quaternary Si-B-C-N films prepared by reactive magnetron sputtering
Popis výsledku anglicky
Quaternary Si-B-C-N films were prepared using reactive direct current magnetron co-sputtering. We focused on complex relationships between process parameters, elemental composition, bonding structure, and mechanical, tribological and optical properties of the deposited materials. The films exhibit a high hardness (up to 36 GPa) and a good adhesion to Si(100) substrates at a low compressive stress (1.0-1.6 GPa), refractive index ranging from 1.8 to 2.2 (at 550 nm) and an extinction coefficient between 2x 10"4 and 0.3. The Si-B-C-N films appear attractive for both tribological and optoelectronic applications.
Klasifikace
Druh
Jx - Nezařazeno - Článek v odborném periodiku (Jimp, Jsc a Jost)
CEP obor
BL - Fyzika plasmatu a výboje v plynech
OECD FORD obor
—
Návaznosti výsledku
Projekt
—
Návaznosti
Z - Vyzkumny zamer (s odkazem do CEZ)
Ostatní
Rok uplatnění
2008
Kód důvěrnosti údajů
S - Úplné a pravdivé údaje o projektu nepodléhají ochraně podle zvláštních právních předpisů
Údaje specifické pro druh výsledku
Název periodika
Thin Solid Films
ISSN
0040-6090
e-ISSN
—
Svazek periodika
516
Číslo periodika v rámci svazku
21
Stát vydavatele periodika
NL - Nizozemsko
Počet stran výsledku
8
Strana od-do
—
Kód UT WoS článku
000259727900004
EID výsledku v databázi Scopus
—
Základní informace
Druh výsledku
Jx - Nezařazeno - Článek v odborném periodiku (Jimp, Jsc a Jost)
CEP
BL - Fyzika plasmatu a výboje v plynech
Rok uplatnění
2008