Vše

Co hledáte?

Vše
Projekty
Výsledky výzkumu
Subjekty

Rychlé hledání

  • Projekty podpořené TA ČR
  • Významné projekty
  • Projekty s nejvyšší státní podporou
  • Aktuálně běžící projekty

Chytré vyhledávání

  • Takto najdu konkrétní +slovo
  • Takto z výsledků -slovo zcela vynechám
  • “Takto můžu najít celou frázi”

Mechanické a optické vlastnosti vrstev kvaternárního systému Si-B-C-N

Identifikátory výsledku

  • Kód výsledku v IS VaVaI

    <a href="https://www.isvavai.cz/riv?ss=detail&h=RIV%2F49777513%3A23520%2F08%3A00500501" target="_blank" >RIV/49777513:23520/08:00500501 - isvavai.cz</a>

  • Výsledek na webu

  • DOI - Digital Object Identifier

Alternativní jazyky

  • Jazyk výsledku

    angličtina

  • Název v původním jazyce

    Mechanical and optical properties of quaternary Si-B-C-N films prepared by reactive magnetron sputtering

  • Popis výsledku v původním jazyce

    Quaternary Si-B-C-N films were prepared using reactive direct current magnetron co-sputtering. We focused on complex relationships between process parameters, elemental composition, bonding structure, and mechanical, tribological and optical properties of the deposited materials. The films exhibit a high hardness (up to 36 GPa) and a good adhesion to Si(100) substrates at a low compressive stress (1.0-1.6 GPa), refractive index ranging from 1.8 to 2.2 (at 550 nm) and an extinction coefficient between 2x 10"4 and 0.3. The Si-B-C-N films appear attractive for both tribological and optoelectronic applications.

  • Název v anglickém jazyce

    Mechanical and optical properties of quaternary Si-B-C-N films prepared by reactive magnetron sputtering

  • Popis výsledku anglicky

    Quaternary Si-B-C-N films were prepared using reactive direct current magnetron co-sputtering. We focused on complex relationships between process parameters, elemental composition, bonding structure, and mechanical, tribological and optical properties of the deposited materials. The films exhibit a high hardness (up to 36 GPa) and a good adhesion to Si(100) substrates at a low compressive stress (1.0-1.6 GPa), refractive index ranging from 1.8 to 2.2 (at 550 nm) and an extinction coefficient between 2x 10"4 and 0.3. The Si-B-C-N films appear attractive for both tribological and optoelectronic applications.

Klasifikace

  • Druh

    J<sub>x</sub> - Nezařazeno - Článek v odborném periodiku (Jimp, Jsc a Jost)

  • CEP obor

    BL - Fyzika plasmatu a výboje v plynech

  • OECD FORD obor

Návaznosti výsledku

  • Projekt

  • Návaznosti

    Z - Vyzkumny zamer (s odkazem do CEZ)

Ostatní

  • Rok uplatnění

    2008

  • Kód důvěrnosti údajů

    S - Úplné a pravdivé údaje o projektu nepodléhají ochraně podle zvláštních právních předpisů

Údaje specifické pro druh výsledku

  • Název periodika

    Thin Solid Films

  • ISSN

    0040-6090

  • e-ISSN

  • Svazek periodika

    516

  • Číslo periodika v rámci svazku

    21

  • Stát vydavatele periodika

    NL - Nizozemsko

  • Počet stran výsledku

    8

  • Strana od-do

  • Kód UT WoS článku

    000259727900004

  • EID výsledku v databázi Scopus