Vliv vodíku na výbojovou směs a vlastnosti TiO2 vrstev

Kód výsledku v IS VaVaI

<a href="https://www.isvavai.cz/riv?ss=detail&h=RIV%2F49777513%3A23520%2F07%3A00000150" target="_blank" >RIV/49777513:23520/07:00000150 - isvavai.cz</a>

Výsledek na webu

—

DOI - Digital Object Identifier

—

Jazyk výsledku

angličtina

Název v původním jazyce

Effect of hydrogen on sputtering discharge and properties of TiO2 films

Popis výsledku v původním jazyce

This article reports on the effect of hydrogen addition into the Ar+O2 discharge mixture on the dc reactive magnetron sputtering prcess and on the structure of sputtered TiO2 films. The hydrogen plays a key role in reactive sputtering of electrically insulating oxides from metallic targets because it fully eliminates arcing on the sputtered target. The hydrogen also strongly influences the dependence of the partial pressure of oxygen po2 vs. flow rate of oxygen. Special attention is devoted to correlations between deposition parameters, structure, phase composition, optical properties and hydrophilic activity of TiO films. It is shown that the presence of H2 in the Ar+O2 mixture does not pravent from the formation of superhydrophilic TiO films.

Název v anglickém jazyce

Effect of hydrogen on sputtering discharge and properties of TiO2 films

Popis výsledku anglicky

This article reports on the effect of hydrogen addition into the Ar+O2 discharge mixture on the dc reactive magnetron sputtering prcess and on the structure of sputtered TiO2 films. The hydrogen plays a key role in reactive sputtering of electrically insulating oxides from metallic targets because it fully eliminates arcing on the sputtered target. The hydrogen also strongly influences the dependence of the partial pressure of oxygen po2 vs. flow rate of oxygen. Special attention is devoted to correlations between deposition parameters, structure, phase composition, optical properties and hydrophilic activity of TiO films. It is shown that the presence of H2 in the Ar+O2 mixture does not pravent from the formation of superhydrophilic TiO films.

Druh

D - Stať ve sborníku

CEP obor

BL - Fyzika plasmatu a výboje v plynech

OECD FORD obor

—

Projekt

—

Návaznosti

Z - Vyzkumny zamer (s odkazem do CEZ)

Rok uplatnění

2007

Kód důvěrnosti údajů

S - Úplné a pravdivé údaje o projektu nepodléhají ochraně podle zvláštních právních předpisů

Název statě ve sborníku

XXVIII International conference on phenomena in ionized gases

ISBN

978-80-87026-01-4

ISSN

—

e-ISSN

—

Počet stran výsledku

4

Strana od-do

675-678

Název nakladatele

Institute of Plasma Physics AS CR

Místo vydání

Prague

Místo konání akce

Praha

Datum konání akce

1. 1. 2007

Typ akce podle státní příslušnosti

WRD - Celosvětová akce

Kód UT WoS článku

—