Generation of positive and negative oxygen ions in magnetron discharge during reactive sputtering of alumina

Kód výsledku v IS VaVaI

<a href="https://www.isvavai.cz/riv?ss=detail&h=RIV%2F68378271%3A_____%2F10%3A00351378" target="_blank" >RIV/68378271:_____/10:00351378 - isvavai.cz</a>

Výsledek na webu

—

DOI - Digital Object Identifier

—

Jazyk výsledku

angličtina

Název v původním jazyce

Generation of positive and negative oxygen ions in magnetron discharge during reactive sputtering of alumina

Popis výsledku v původním jazyce

The paper is devoted to the investigation of ion composition of plasma of dc pulsed magnetron discharge generated by a magnetron with Al target in an Ar/O2 mixture. The magnetron discharge was investigated in the non-reactive, metallic and oxide mode ofsputtering using a mass spectrometer. The amount and energies of neutral oxygen atoms O,positive O+ and O2+ ions, and negative O- and O2- ions were measured as a function of oxygen flow rate ?O2, magnetron voltage Ud and constant power Pd=400W deliveredto the magnetron discharge, repetition frequency of pulses f=10 kHz and the ratio of O2 and Ar flow rates ?O2=?Ar. The content of ions and radicals in magnetron discharge is compared with optical spectroscopy measurements. The obtained results give a deeper insight into reactive magnetron sputtering of oxide films.

Název v anglickém jazyce

Generation of positive and negative oxygen ions in magnetron discharge during reactive sputtering of alumina

Popis výsledku anglicky

The paper is devoted to the investigation of ion composition of plasma of dc pulsed magnetron discharge generated by a magnetron with Al target in an Ar/O2 mixture. The magnetron discharge was investigated in the non-reactive, metallic and oxide mode ofsputtering using a mass spectrometer. The amount and energies of neutral oxygen atoms O,positive O+ and O2+ ions, and negative O- and O2- ions were measured as a function of oxygen flow rate ?O2, magnetron voltage Ud and constant power Pd=400W deliveredto the magnetron discharge, repetition frequency of pulses f=10 kHz and the ratio of O2 and Ar flow rates ?O2=?Ar. The content of ions and radicals in magnetron discharge is compared with optical spectroscopy measurements. The obtained results give a deeper insight into reactive magnetron sputtering of oxide films.

Druh

J_x - Nezařazeno - Článek v odborném periodiku (Jimp, Jsc a Jost)

CEP obor

BM - Fyzika pevných látek a magnetismus

OECD FORD obor

—

Projekt

Výsledek vznikl pri realizaci vícero projektů. Více informací v záložce Projekty.

Návaznosti

P - Projekt vyzkumu a vyvoje financovany z verejnych zdroju (s odkazem do CEP)<br>Z - Vyzkumny zamer (s odkazem do CEZ)

Rok uplatnění

2010

Kód důvěrnosti údajů

S - Úplné a pravdivé údaje o projektu nepodléhají ochraně podle zvláštních právních předpisů

Název periodika

Plasma Processes and Polymers

ISSN

1612-8850

e-ISSN

—

Svazek periodika

7

Číslo periodika v rámci svazku

11

Stát vydavatele periodika

DE - Spolková republika Německo

Počet stran výsledku

5

Strana od-do

—

Kód UT WoS článku

000285212000004

EID výsledku v databázi Scopus

—