Vše

Co hledáte?

Vše
Projekty
Výsledky výzkumu
Subjekty

Rychlé hledání

  • Projekty podpořené TA ČR
  • Významné projekty
  • Projekty s nejvyšší státní podporou
  • Aktuálně běžící projekty

Chytré vyhledávání

  • Takto najdu konkrétní +slovo
  • Takto z výsledků -slovo zcela vynechám
  • “Takto můžu najít celou frázi”

Vliv vodíku na reaktivní naprašování transparentních oxidových vrstev

Identifikátory výsledku

  • Kód výsledku v IS VaVaI

    <a href="https://www.isvavai.cz/riv?ss=detail&h=RIV%2F49777513%3A23520%2F07%3A00000204" target="_blank" >RIV/49777513:23520/07:00000204 - isvavai.cz</a>

  • Výsledek na webu

  • DOI - Digital Object Identifier

Alternativní jazyky

  • Jazyk výsledku

    angličtina

  • Název v původním jazyce

    Effect of Hydrogen on Reactive Sputtering of Transparent Oxide Films

  • Popis výsledku v původním jazyce

    The article reports on the effect of addition of H2 into a mixture of Ar+O2 on the process of dc reactive magnetron sputtering of oxides and the electrical conductivity of transparent oxide films. Four systems were investigated: In-Sn-O, TiO2, Ti-Y-O a ZrO2 fils. It was found that the addition of H2 into Ar+O2 sputtering gas mixture results in: decrease in the magnetron discharge voltage , strong change of the dependence and dramatic decrease of electrical resistivity of sputtered transparent oxide films. These results are described in detail.

  • Název v anglickém jazyce

    Effect of Hydrogen on Reactive Sputtering of Transparent Oxide Films

  • Popis výsledku anglicky

    The article reports on the effect of addition of H2 into a mixture of Ar+O2 on the process of dc reactive magnetron sputtering of oxides and the electrical conductivity of transparent oxide films. Four systems were investigated: In-Sn-O, TiO2, Ti-Y-O a ZrO2 fils. It was found that the addition of H2 into Ar+O2 sputtering gas mixture results in: decrease in the magnetron discharge voltage , strong change of the dependence and dramatic decrease of electrical resistivity of sputtered transparent oxide films. These results are described in detail.

Klasifikace

  • Druh

    J<sub>x</sub> - Nezařazeno - Článek v odborném periodiku (Jimp, Jsc a Jost)

  • CEP obor

    BL - Fyzika plasmatu a výboje v plynech

  • OECD FORD obor

Návaznosti výsledku

  • Projekt

  • Návaznosti

    Z - Vyzkumny zamer (s odkazem do CEZ)

Ostatní

  • Rok uplatnění

    2007

  • Kód důvěrnosti údajů

    S - Úplné a pravdivé údaje o projektu nepodléhají ochraně podle zvláštních právních předpisů

Údaje specifické pro druh výsledku

  • Název periodika

    Plasma Processes and Polymers

  • ISSN

    1612-8850

  • e-ISSN

  • Svazek periodika

  • Číslo periodika v rámci svazku

  • Stát vydavatele periodika

    DE - Spolková republika Německo

  • Počet stran výsledku

    1

  • Strana od-do

  • Kód UT WoS článku

  • EID výsledku v databázi Scopus