Tvrdé amorfní vrstvy Si-B-C-N s ultravysokou teplotní stabilitou ve vzduchu
Identifikátory výsledku
Kód výsledku v IS VaVaI
<a href="https://www.isvavai.cz/riv?ss=detail&h=RIV%2F49777513%3A23520%2F08%3A00501289" target="_blank" >RIV/49777513:23520/08:00501289 - isvavai.cz</a>
Výsledek na webu
—
DOI - Digital Object Identifier
—
Alternativní jazyky
Jazyk výsledku
angličtina
Název v původním jazyce
Hard Amorphous Si-B-C-N Films with Ultra-High Thermal Stability in Air
Popis výsledku v původním jazyce
Novel quaternary Si-B-C-N materials are becoming increasingly attractive because of their possible high-temperature and harsh-environment applications. In the present work, amorphous Si-B-C-N films were deposited on Si and SiC substrates by reactive dc magnetron co-sputtering using a single C-Si-B or B4C-Si target in nitrogen-argon gas mixtures. Films deposited under optimized conditions (B4C-Si target, 50% N2 + 50% Ar gas mixture) exhibited extremely high oxidation resistance in air at elevated temperatures (even above 1500°C). Formation of protective surface layers (mainly composed of Si and O) was proved by high-resolution transmission electron microscopy (HRTEM), Rutheford backscattering spectrometry (RBS) and X-ray diffraction (XRD) measurements after oxidization.
Název v anglickém jazyce
Hard Amorphous Si-B-C-N Films with Ultra-High Thermal Stability in Air
Popis výsledku anglicky
Novel quaternary Si-B-C-N materials are becoming increasingly attractive because of their possible high-temperature and harsh-environment applications. In the present work, amorphous Si-B-C-N films were deposited on Si and SiC substrates by reactive dc magnetron co-sputtering using a single C-Si-B or B4C-Si target in nitrogen-argon gas mixtures. Films deposited under optimized conditions (B4C-Si target, 50% N2 + 50% Ar gas mixture) exhibited extremely high oxidation resistance in air at elevated temperatures (even above 1500°C). Formation of protective surface layers (mainly composed of Si and O) was proved by high-resolution transmission electron microscopy (HRTEM), Rutheford backscattering spectrometry (RBS) and X-ray diffraction (XRD) measurements after oxidization.
Klasifikace
Druh
D - Stať ve sborníku
CEP obor
BL - Fyzika plasmatu a výboje v plynech
OECD FORD obor
—
Návaznosti výsledku
Projekt
—
Návaznosti
Z - Vyzkumny zamer (s odkazem do CEZ)
Ostatní
Rok uplatnění
2008
Kód důvěrnosti údajů
S - Úplné a pravdivé údaje o projektu nepodléhají ochraně podle zvláštních právních předpisů
Údaje specifické pro druh výsledku
Název statě ve sborníku
Technical Conference Proceedings
ISBN
—
ISSN
0737-5921
e-ISSN
—
Počet stran výsledku
5
Strana od-do
—
Název nakladatele
Society of Vacuum Coaters
Místo vydání
Chicago
Místo konání akce
Chicago
Datum konání akce
24. 4. 2008
Typ akce podle státní příslušnosti
WRD - Celosvětová akce
Kód UT WoS článku
—