High-temperature stability of the mechanical and optical properties of Si-B-C-N films prepared by magnetron sputtering

Kód výsledku v IS VaVaI

<a href="https://www.isvavai.cz/riv?ss=detail&h=RIV%2F49777513%3A23520%2F09%3A00501690" target="_blank" >RIV/49777513:23520/09:00501690 - isvavai.cz</a>

Výsledek na webu

—

DOI - Digital Object Identifier

—

Jazyk výsledku

angličtina

Název v původním jazyce

High-temperature stability of the mechanical and optical properties of Si-B-C-N films prepared by magnetron sputtering

Popis výsledku v původním jazyce

Amorphous Si-B-C-N films with two compositions (Si34B9C4N49 and Si36B13C7N40) and low contamination level (H+O+Ar < 4 at.%) were deposited on silicon substrates by reactive dc magnetron co-sputtering using two different targets and gas mixtures. Thermalstability of these films was investigated in terms of composition, bonding structure, as well as mechanical and optical properties after annealing in helium up to the 1300°C substrate limit. Furthermore, both Si-B-C-N materials studied here exhibited extremely high oxidation resistance in air up to the 1300°C substrate limit.

Název v anglickém jazyce

High-temperature stability of the mechanical and optical properties of Si-B-C-N films prepared by magnetron sputtering

Popis výsledku anglicky

Amorphous Si-B-C-N films with two compositions (Si34B9C4N49 and Si36B13C7N40) and low contamination level (H+O+Ar < 4 at.%) were deposited on silicon substrates by reactive dc magnetron co-sputtering using two different targets and gas mixtures. Thermalstability of these films was investigated in terms of composition, bonding structure, as well as mechanical and optical properties after annealing in helium up to the 1300°C substrate limit. Furthermore, both Si-B-C-N materials studied here exhibited extremely high oxidation resistance in air up to the 1300°C substrate limit.

Druh

J_x - Nezařazeno - Článek v odborném periodiku (Jimp, Jsc a Jost)

CEP obor

BL - Fyzika plasmatu a výboje v plynech

OECD FORD obor

—

Projekt

—

Návaznosti

Z - Vyzkumny zamer (s odkazem do CEZ)

Rok uplatnění

2009

Kód důvěrnosti údajů

S - Úplné a pravdivé údaje o projektu nepodléhají ochraně podle zvláštních právních předpisů

Název periodika

Thin Solid Films

ISSN

0040-6090

e-ISSN

—

Svazek periodika

518

Číslo periodika v rámci svazku

1

Stát vydavatele periodika

NL - Nizozemsko

Počet stran výsledku

6

Strana od-do

—

Kód UT WoS článku

000270628800030

EID výsledku v databázi Scopus

—