Pulsed Magnetron Sputtering of Metallic Films Using a Hot Target
Identifikátory výsledku
Kód výsledku v IS VaVaI
<a href="https://www.isvavai.cz/riv?ss=detail&h=RIV%2F49777513%3A23520%2F09%3A00502104" target="_blank" >RIV/49777513:23520/09:00502104 - isvavai.cz</a>
Nalezeny alternativní kódy
RIV/49777513:23640/09:00502104
Výsledek na webu
—
DOI - Digital Object Identifier
—
Alternativní jazyky
Jazyk výsledku
angličtina
Název v původním jazyce
Pulsed Magnetron Sputtering of Metallic Films Using a Hot Target
Popis výsledku v původním jazyce
Pulsed magnetron sputtering of titanium films was performed using a directly water-cooled target and a hot target of 100 mm diameter to investigate the effect of the target temperature on the sputtering process. The repetition frequency of the pulsed dcpower supply was 10 kHz at a 20% duty cycle and an argon pressure of 0.5 Pa. Almost constant target temperatures during depositions with the hot target, being heated by ion bombardment itself, were controlled by preset values of the average pulse currentat a target power density in a pulse up to 340 W per square centimeter. It has been shown that an increase in the surface temperature of the hot target resulted in a rise in the deposition rate (up to 1.9 times) at a decreasing average pulse voltage (upto 1.5 times) compared to the cooled target with the same average pulse target current density (up to 0.33 A per square centimeter).
Název v anglickém jazyce
Pulsed Magnetron Sputtering of Metallic Films Using a Hot Target
Popis výsledku anglicky
Pulsed magnetron sputtering of titanium films was performed using a directly water-cooled target and a hot target of 100 mm diameter to investigate the effect of the target temperature on the sputtering process. The repetition frequency of the pulsed dcpower supply was 10 kHz at a 20% duty cycle and an argon pressure of 0.5 Pa. Almost constant target temperatures during depositions with the hot target, being heated by ion bombardment itself, were controlled by preset values of the average pulse currentat a target power density in a pulse up to 340 W per square centimeter. It has been shown that an increase in the surface temperature of the hot target resulted in a rise in the deposition rate (up to 1.9 times) at a decreasing average pulse voltage (upto 1.5 times) compared to the cooled target with the same average pulse target current density (up to 0.33 A per square centimeter).
Klasifikace
Druh
D - Stať ve sborníku
CEP obor
BL - Fyzika plasmatu a výboje v plynech
OECD FORD obor
—
Návaznosti výsledku
Projekt
—
Návaznosti
Z - Vyzkumny zamer (s odkazem do CEZ)
Ostatní
Rok uplatnění
2009
Kód důvěrnosti údajů
S - Úplné a pravdivé údaje o projektu nepodléhají ochraně podle zvláštních právních předpisů
Údaje specifické pro druh výsledku
Název statě ve sborníku
Society of Vacuum Coaters: Technical Conference Proceedings
ISBN
978-1-878068-29-3
ISSN
—
e-ISSN
—
Počet stran výsledku
5
Strana od-do
—
Název nakladatele
Society of Vacuum Coaters
Místo vydání
Santa Clara
Místo konání akce
Santa Clara
Datum konání akce
14. 5. 2009
Typ akce podle státní příslušnosti
WRD - Celosvětová akce
Kód UT WoS článku
—