High-rate reactive deposition of transparent SiO2 films containing low amount of Zr from molten magnetron target

Kód výsledku v IS VaVaI

<a href="https://www.isvavai.cz/riv?ss=detail&h=RIV%2F49777513%3A23520%2F10%3A00503563" target="_blank" >RIV/49777513:23520/10:00503563 - isvavai.cz</a>

Nalezeny alternativní kódy

RIV/68378271:_____/10:00437497

Výsledek na webu

—

DOI - Digital Object Identifier

—

Jazyk výsledku

angličtina

Název v původním jazyce

High-rate reactive deposition of transparent SiO2 films containing low amount of Zr from molten magnetron target

Popis výsledku v původním jazyce

The paper reports on a reactive deposition of transparent SiO2 films with a low amount of Zr prepared from the molten target using the AC pulsed dual magnetron. It is shown that the deposition rate of the transparent oxide film strongly increases at thecritical target power density when the solid target starts to melt and the magnetron operates with a molten target. In this case, the evaporation of target material plays a dominant role in the reactive deposition of thin films. This process is called the ionized magnetron evaporation. Oxide films reactively deposited from the molten target are well transparent and highly elastic. The maximum deposition rate of the transparent oxide film achieved in our experiments is 814 nm/min.

Název v anglickém jazyce

High-rate reactive deposition of transparent SiO2 films containing low amount of Zr from molten magnetron target

Popis výsledku anglicky

The paper reports on a reactive deposition of transparent SiO2 films with a low amount of Zr prepared from the molten target using the AC pulsed dual magnetron. It is shown that the deposition rate of the transparent oxide film strongly increases at thecritical target power density when the solid target starts to melt and the magnetron operates with a molten target. In this case, the evaporation of target material plays a dominant role in the reactive deposition of thin films. This process is called the ionized magnetron evaporation. Oxide films reactively deposited from the molten target are well transparent and highly elastic. The maximum deposition rate of the transparent oxide film achieved in our experiments is 814 nm/min.

Druh

J_x - Nezařazeno - Článek v odborném periodiku (Jimp, Jsc a Jost)

CEP obor

BL - Fyzika plasmatu a výboje v plynech

OECD FORD obor

—

Projekt

<a href="/cs/project/OC10045" target="_blank" >OC10045: Nové plazmové zdroje pro depozici vrstev a modifikaci povrchů</a><br>

Návaznosti

P - Projekt vyzkumu a vyvoje financovany z verejnych zdroju (s odkazem do CEP)<br>Z - Vyzkumny zamer (s odkazem do CEZ)

Rok uplatnění

2010

Kód důvěrnosti údajů

S - Úplné a pravdivé údaje o projektu nepodléhají ochraně podle zvláštních právních předpisů

Název periodika

Thin Solid Films

ISSN

0040-6090

e-ISSN

—

Svazek periodika

519

Číslo periodika v rámci svazku

2

Stát vydavatele periodika

NL - Nizozemsko

Počet stran výsledku

3

Strana od-do

—

Kód UT WoS článku

000284499500039

EID výsledku v databázi Scopus

—