Elimination of Arcing in Reactive Sputtering of Al2O3 Thin Films Prepared by DC Pulse Single Magnetron
Identifikátory výsledku
Kód výsledku v IS VaVaI
<a href="https://www.isvavai.cz/riv?ss=detail&h=RIV%2F49777513%3A23520%2F11%3A43898487" target="_blank" >RIV/49777513:23520/11:43898487 - isvavai.cz</a>
Výsledek na webu
<a href="http://dx.doi.org/10.1002/ppap.201000208" target="_blank" >http://dx.doi.org/10.1002/ppap.201000208</a>
DOI - Digital Object Identifier
<a href="http://dx.doi.org/10.1002/ppap.201000208" target="_blank" >10.1002/ppap.201000208</a>
Alternativní jazyky
Jazyk výsledku
angličtina
Název v původním jazyce
Elimination of Arcing in Reactive Sputtering of Al2O3 Thin Films Prepared by DC Pulse Single Magnetron
Popis výsledku v původním jazyce
The article reports on the elimination of arcing in the DC pulse reactive sputtering of Al2O3 thin films using a single unbalanced magnetron operating at relatively high target power density. Correlations between pulse length, pulse-off time, repetitionfrequency and arcing at the target surface were investigated in detail. It is shown that the length of pulse-off time is of key importance for elimination of arcing in pulse reactive sputtering of electrically insulating compounds using a single magnetron.
Název v anglickém jazyce
Elimination of Arcing in Reactive Sputtering of Al2O3 Thin Films Prepared by DC Pulse Single Magnetron
Popis výsledku anglicky
The article reports on the elimination of arcing in the DC pulse reactive sputtering of Al2O3 thin films using a single unbalanced magnetron operating at relatively high target power density. Correlations between pulse length, pulse-off time, repetitionfrequency and arcing at the target surface were investigated in detail. It is shown that the length of pulse-off time is of key importance for elimination of arcing in pulse reactive sputtering of electrically insulating compounds using a single magnetron.
Klasifikace
Druh
J<sub>x</sub> - Nezařazeno - Článek v odborném periodiku (Jimp, Jsc a Jost)
CEP obor
BL - Fyzika plasmatu a výboje v plynech
OECD FORD obor
—
Návaznosti výsledku
Projekt
<a href="/cs/project/OC10045" target="_blank" >OC10045: Nové plazmové zdroje pro depozici vrstev a modifikaci povrchů</a><br>
Návaznosti
P - Projekt vyzkumu a vyvoje financovany z verejnych zdroju (s odkazem do CEP)<br>Z - Vyzkumny zamer (s odkazem do CEZ)
Ostatní
Rok uplatnění
2011
Kód důvěrnosti údajů
S - Úplné a pravdivé údaje o projektu nepodléhají ochraně podle zvláštních právních předpisů
Údaje specifické pro druh výsledku
Název periodika
Plasma Processes and Polymers
ISSN
1612-8850
e-ISSN
—
Svazek periodika
8
Číslo periodika v rámci svazku
6
Stát vydavatele periodika
US - Spojené státy americké
Počet stran výsledku
5
Strana od-do
500-504
Kód UT WoS článku
—
EID výsledku v databázi Scopus
—