CONTROLLED REACTIVE HiPIMS – EFFECTIVE TECHNIQUE FOR LOW-TEMPERATURE DEPOSITION OF FUNCTIONAL OXIDE FILMS

Kód výsledku v IS VaVaI

<a href="https://www.isvavai.cz/riv?ss=detail&h=RIV%2F49777513%3A23520%2F18%3A43951298" target="_blank" >RIV/49777513:23520/18:43951298 - isvavai.cz</a>

Výsledek na webu

—

DOI - Digital Object Identifier

—

Jazyk výsledku

angličtina

Název v původním jazyce

CONTROLLED REACTIVE HiPIMS – EFFECTIVE TECHNIQUE FOR LOW-TEMPERATURE DEPOSITION OF FUNCTIONAL OXIDE FILMS

Popis výsledku v původním jazyce

Reactive high-power impulse magnetron sputtering with a feedback pulsed O2 flow control and to-substrate O2 injection into a high-density plasma in front of the sputtered metal (V or Hf) target was used for low-temperature (300 °C) deposition of thermochromic VO2 films onto conventional soda-lime glass substrates without any substrate bias voltage and without any interlayer, and for high-rate deposition (up to 200 nm/min) of densified (n550 = 2.12, H = 18 GPa), optically transparent (k550 = 0.0005), stoichiometric HfO2 films onto floating substrates at the substrate temperatures less than 140 °C. We give the basic principles of this effective deposition technique with a high application potential.

Název v anglickém jazyce

CONTROLLED REACTIVE HiPIMS – EFFECTIVE TECHNIQUE FOR LOW-TEMPERATURE DEPOSITION OF FUNCTIONAL OXIDE FILMS

Popis výsledku anglicky

Reactive high-power impulse magnetron sputtering with a feedback pulsed O2 flow control and to-substrate O2 injection into a high-density plasma in front of the sputtered metal (V or Hf) target was used for low-temperature (300 °C) deposition of thermochromic VO2 films onto conventional soda-lime glass substrates without any substrate bias voltage and without any interlayer, and for high-rate deposition (up to 200 nm/min) of densified (n550 = 2.12, H = 18 GPa), optically transparent (k550 = 0.0005), stoichiometric HfO2 films onto floating substrates at the substrate temperatures less than 140 °C. We give the basic principles of this effective deposition technique with a high application potential.

Druh

D - Stať ve sborníku

CEP obor

—

OECD FORD obor

20506 - Coating and films

Projekt

<a href="/cs/project/EF17_048%2F0007267" target="_blank" >EF17_048/0007267: VaV inteligentních komponent pokročilých technologií pro plzeňskou metropolitní oblast</a><br>

Návaznosti

P - Projekt vyzkumu a vyvoje financovany z verejnych zdroju (s odkazem do CEP)

Rok uplatnění

2018

Kód důvěrnosti údajů

S - Úplné a pravdivé údaje o projektu nepodléhají ochraně podle zvláštních právních předpisů

Název statě ve sborníku

9th International Conference on Power Electronics for Plasma Engineering Conference Proceedings

ISBN

978-83-930983-8-5

ISSN

—

e-ISSN

neuvedeno

Počet stran výsledku

7

Strana od-do

"28.1"-"28.7"

Název nakladatele

TRUMPF Huettinger Sp. z o.o.

Místo vydání

Zielonka

Místo konání akce

Freiburg, Germany

Datum konání akce

14. 5. 2018

Typ akce podle státní příslušnosti

WRD - Celosvětová akce

Kód UT WoS článku

—