Vše

Co hledáte?

Vše
Projekty
Výsledky výzkumu
Subjekty

Rychlé hledání

  • Projekty podpořené TA ČR
  • Významné projekty
  • Projekty s nejvyšší státní podporou
  • Aktuálně běžící projekty

Chytré vyhledávání

  • Takto najdu konkrétní +slovo
  • Takto z výsledků -slovo zcela vynechám
  • “Takto můžu najít celou frázi”

Reactive HiPIMS deposition of Al-oxide thin films using W-alloyed Al targets

Identifikátory výsledku

  • Kód výsledku v IS VaVaI

    <a href="https://www.isvavai.cz/riv?ss=detail&h=RIV%2F49777513%3A23520%2F21%3A43962206" target="_blank" >RIV/49777513:23520/21:43962206 - isvavai.cz</a>

  • Výsledek na webu

    <a href="https://doi.org/10.1016/j.surfcoat.2021.127467" target="_blank" >https://doi.org/10.1016/j.surfcoat.2021.127467</a>

  • DOI - Digital Object Identifier

    <a href="http://dx.doi.org/10.1016/j.surfcoat.2021.127467" target="_blank" >10.1016/j.surfcoat.2021.127467</a>

Alternativní jazyky

  • Jazyk výsledku

    angličtina

  • Název v původním jazyce

    Reactive HiPIMS deposition of Al-oxide thin films using W-alloyed Al targets

  • Popis výsledku v původním jazyce

    We investigated in detail the influence of 2 at.% tungsten in the Al-target on the process stability and phase formation during reactive DC magnetron sputtering as well as high power impulse magnetron sputtering (HiPIMS) of Al2O3-based coatings. The small addition of W to the Al target allows to increase the oxygen partial pressure by more than 200% while maintaining a stable deposition process. Ion mass spectroscopy measurements yield a promising high fraction of oxygen ions, when operating the W-containing target in the metal-to-poisoned transition mode. Detailed electron microscopy investigations show the presence of metallic phase fractions for higher duty cycles (7.5%). Decreasing the duty cycle to 3.75% leads to amorphous coatings when operating the Al-target at the highest oxygen partial pressure in metallic mode.

  • Název v anglickém jazyce

    Reactive HiPIMS deposition of Al-oxide thin films using W-alloyed Al targets

  • Popis výsledku anglicky

    We investigated in detail the influence of 2 at.% tungsten in the Al-target on the process stability and phase formation during reactive DC magnetron sputtering as well as high power impulse magnetron sputtering (HiPIMS) of Al2O3-based coatings. The small addition of W to the Al target allows to increase the oxygen partial pressure by more than 200% while maintaining a stable deposition process. Ion mass spectroscopy measurements yield a promising high fraction of oxygen ions, when operating the W-containing target in the metal-to-poisoned transition mode. Detailed electron microscopy investigations show the presence of metallic phase fractions for higher duty cycles (7.5%). Decreasing the duty cycle to 3.75% leads to amorphous coatings when operating the Al-target at the highest oxygen partial pressure in metallic mode.

Klasifikace

  • Druh

    J<sub>imp</sub> - Článek v periodiku v databázi Web of Science

  • CEP obor

  • OECD FORD obor

    20506 - Coating and films

Návaznosti výsledku

  • Projekt

    <a href="/cs/project/EF17_048%2F0007267" target="_blank" >EF17_048/0007267: VaV inteligentních komponent pokročilých technologií pro plzeňskou metropolitní oblast</a><br>

  • Návaznosti

    P - Projekt vyzkumu a vyvoje financovany z verejnych zdroju (s odkazem do CEP)<br>I - Institucionalni podpora na dlouhodoby koncepcni rozvoj vyzkumne organizace

Ostatní

  • Rok uplatnění

    2021

  • Kód důvěrnosti údajů

    S - Úplné a pravdivé údaje o projektu nepodléhají ochraně podle zvláštních právních předpisů

Údaje specifické pro druh výsledku

  • Název periodika

    Surface and Coatings Technology

  • ISSN

    0257-8972

  • e-ISSN

  • Svazek periodika

    422

  • Číslo periodika v rámci svazku

    25 SEP 2021

  • Stát vydavatele periodika

    CH - Švýcarská konfederace

  • Počet stran výsledku

    10

  • Strana od-do

    "127467-1"-"127467-10"

  • Kód UT WoS článku

    000685607200028

  • EID výsledku v databázi Scopus

    2-s2.0-85110752168