Structural and optical studies of a-Si:H thin films: From amorphous to nanocrystalline silicon

Kód výsledku v IS VaVaI

<a href="https://www.isvavai.cz/riv?ss=detail&h=RIV%2F49777513%3A23640%2F05%3A00503392" target="_blank" >RIV/49777513:23640/05:00503392 - isvavai.cz</a>

Výsledek na webu

—

DOI - Digital Object Identifier

—

Jazyk výsledku

angličtina

Název v původním jazyce

Structural and optical studies of a-Si:H thin films: From amorphous to nanocrystalline silicon

Popis výsledku v původním jazyce

We report on the results of the investigation of surface morphology, structure and optical properties of plasma deposited thin films of hydrogenated amorphous silicon determined by atomic force microscopy, X-ray diffraction and UV-Vis and IR spectroscopy. The influence of the both hydrogen dilution of silane plasma in the plasma deposition and the film thickness on the film properties was investigated. The structure, the refractive index and the optical band gap of the dilution series and the thicknessseries were analyzed.

Název v anglickém jazyce

Structural and optical studies of a-Si:H thin films: From amorphous to nanocrystalline silicon

Popis výsledku anglicky

We report on the results of the investigation of surface morphology, structure and optical properties of plasma deposited thin films of hydrogenated amorphous silicon determined by atomic force microscopy, X-ray diffraction and UV-Vis and IR spectroscopy. The influence of the both hydrogen dilution of silane plasma in the plasma deposition and the film thickness on the film properties was investigated. The structure, the refractive index and the optical band gap of the dilution series and the thicknessseries were analyzed.

Druh

J_x - Nezařazeno - Článek v odborném periodiku (Jimp, Jsc a Jost)

CEP obor

BM - Fyzika pevných látek a magnetismus

OECD FORD obor

—

Projekt

<a href="/cs/project/LN00B084" target="_blank" >LN00B084: Nové technologie Výzkumné centrum v Západočeském regionu</a><br>

Návaznosti

P - Projekt vyzkumu a vyvoje financovany z verejnych zdroju (s odkazem do CEP)

Rok uplatnění

2005

Kód důvěrnosti údajů

S - Úplné a pravdivé údaje o projektu nepodléhají ochraně podle zvláštních právních předpisů

Název periodika

Acta Physica Slovaca

ISSN

0323-0465

e-ISSN

—

Svazek periodika

55

Číslo periodika v rámci svazku

3

Stát vydavatele periodika

SK - Slovenská republika

Počet stran výsledku

9

Strana od-do

—

Kód UT WoS článku

000229323000011

EID výsledku v databázi Scopus

—