Structural changes studies of a-Si:H films deposited by PECVD under different hydrogen dilutions using various experimental techniques

Kód výsledku v IS VaVaI

<a href="https://www.isvavai.cz/riv?ss=detail&h=RIV%2F49777513%3A23640%2F09%3A00502097" target="_blank" >RIV/49777513:23640/09:00502097 - isvavai.cz</a>

Výsledek na webu

—

DOI - Digital Object Identifier

—

Jazyk výsledku

angličtina

Název v původním jazyce

Structural changes studies of a-Si:H films deposited by PECVD under different hydrogen dilutions using various experimental techniques

Popis výsledku v původním jazyce

Plasma enhanced chemical vapour deposition (PECVD) has been used to prepare hydrogenated amorphous silicon (a-Si:H) thin films at different hydrogen dilution of silane source gas. The films were deposited on Corning glass 1737 substrate and on (100) oriented c-Si wafers and characterized by XRD diffraction, micro-Raman and FTIR spectrometry. Experimental data show evolution from amorphous to nanocrystalline silicon and contain the medium-range order (MRO) with varying hydrogen dilution during deposition. From X-ray diffraction and Raman analysis, it is found that the presence of crystalline phase depends on the kind of substrate and on the dilution scale.

Název v anglickém jazyce

Structural changes studies of a-Si:H films deposited by PECVD under different hydrogen dilutions using various experimental techniques

Popis výsledku anglicky

Plasma enhanced chemical vapour deposition (PECVD) has been used to prepare hydrogenated amorphous silicon (a-Si:H) thin films at different hydrogen dilution of silane source gas. The films were deposited on Corning glass 1737 substrate and on (100) oriented c-Si wafers and characterized by XRD diffraction, micro-Raman and FTIR spectrometry. Experimental data show evolution from amorphous to nanocrystalline silicon and contain the medium-range order (MRO) with varying hydrogen dilution during deposition. From X-ray diffraction and Raman analysis, it is found that the presence of crystalline phase depends on the kind of substrate and on the dilution scale.

Druh

J_x - Nezařazeno - Článek v odborném periodiku (Jimp, Jsc a Jost)

CEP obor

BM - Fyzika pevných látek a magnetismus

OECD FORD obor

—

Projekt

<a href="/cs/project/1M06031" target="_blank" >1M06031: Materiály a komponenty pro ochranu životního prostředí</a><br>

Návaznosti

P - Projekt vyzkumu a vyvoje financovany z verejnych zdroju (s odkazem do CEP)

Rok uplatnění

2009

Kód důvěrnosti údajů

S - Úplné a pravdivé údaje o projektu nepodléhají ochraně podle zvláštních právních předpisů

Název periodika

Vacuum

ISSN

0042-207X

e-ISSN

—

Svazek periodika

84

Číslo periodika v rámci svazku

1

Stát vydavatele periodika

GB - Spojené království Velké Británie a Severního Irska

Počet stran výsledku

3

Strana od-do

—

Kód UT WoS článku

000270625900031

EID výsledku v databázi Scopus

—