Angular dependence of plasma parameters and film properties during high power impulse magnetron sputtering for deposition of Ti and TiO2 layers

Kód výsledku v IS VaVaI

<a href="https://www.isvavai.cz/riv?ss=detail&h=RIV%2F60076658%3A12310%2F17%3A43895392" target="_blank" >RIV/60076658:12310/17:43895392 - isvavai.cz</a>

Nalezeny alternativní kódy

RIV/68378271:_____/17:00486979

Výsledek na webu

<a href="http://aip.scitation.org/doi/10.1063/1.4977823" target="_blank" >http://aip.scitation.org/doi/10.1063/1.4977823</a>

DOI - Digital Object Identifier

<a href="http://dx.doi.org/10.1063/1.4977823" target="_blank" >10.1063/1.4977823</a>

Jazyk výsledku

angličtina

Název v původním jazyce

Angular dependence of plasma parameters and film properties during high power impulse magnetron sputtering for deposition of Ti and TiO2 layers

Popis výsledku v původním jazyce

Angular distribution measurements have been carried out during High Power Impulse Magnetron Sputtering (HiPIMS) of a titanium target and deposition of titanium and titanium oxide films. The HiPIMS system was operated at a repetition frequency f = 100 Hz with a duty cycle of 1%. Langmuir probe diagnostics has been carried out at a distance of 7.5 cm from the target at four different angles with respect to the surface normal of the target. Film properties were investigated by means of SEM, XR, and GIXD, and a dependence of film thickness and crystalline structure on the deposition angle is observed. Published by AIP Publishing.

Název v anglickém jazyce

Angular dependence of plasma parameters and film properties during high power impulse magnetron sputtering for deposition of Ti and TiO2 layers

Popis výsledku anglicky

Angular distribution measurements have been carried out during High Power Impulse Magnetron Sputtering (HiPIMS) of a titanium target and deposition of titanium and titanium oxide films. The HiPIMS system was operated at a repetition frequency f = 100 Hz with a duty cycle of 1%. Langmuir probe diagnostics has been carried out at a distance of 7.5 cm from the target at four different angles with respect to the surface normal of the target. Film properties were investigated by means of SEM, XR, and GIXD, and a dependence of film thickness and crystalline structure on the deposition angle is observed. Published by AIP Publishing.

Druh

J_imp - Článek v periodiku v databázi Web of Science

CEP obor

—

OECD FORD obor

10305 - Fluids and plasma physics (including surface physics)

Projekt

Výsledek vznikl pri realizaci vícero projektů. Více informací v záložce Projekty.

Návaznosti

P - Projekt vyzkumu a vyvoje financovany z verejnych zdroju (s odkazem do CEP)

Rok uplatnění

2017

Kód důvěrnosti údajů

S - Úplné a pravdivé údaje o projektu nepodléhají ochraně podle zvláštních právních předpisů

Název periodika

Journal of Applied Physics

ISSN

0021-8979

e-ISSN

—

Svazek periodika

121

Číslo periodika v rámci svazku

17

Stát vydavatele periodika

US - Spojené státy americké

Počet stran výsledku

9

Strana od-do

—

Kód UT WoS článku

000400623700008

EID výsledku v databázi Scopus

—