Angle-resolved investigation of ion dynamics in high power impulse magnetron sputtering deposition system

Kód výsledku v IS VaVaI

RIV/68378271:_____/13:00421856 - isvavai.cz

Výsledek na webu

http://www.sciencedirect.com/science/article/pii/S0040609013011127

DOI - Digital Object Identifier

10.1016/j.tsf.2013.06.061

Jazyk výsledku

angličtina

Název v původním jazyce

Angle-resolved investigation of ion dynamics in high power impulse magnetron sputtering deposition system

Popis výsledku v původním jazyce

The high power impulse magnetron sputtering deposition system (HiPIMS) equipped with 5 cm in diameter titanium target has been investigated by means of time-resolved modified Katsumata probe. The probe allows for determination of the ion velocity distribution function. Compact construction of modified Katsumata probe allows us to place the probe in an arbitrary position with respect to planar magnetron. The present construction of modified Katsumata probe allows reaching the acceptance angle of about 15°. The ion velocity distribution function (IVDF) in forward direction is then directly proportional to the derivative of measured ion current with respect to the retarding potential. An angle-resolved study of HiPIMS system operating in the reactive atmosphere has been carried out. The effect of oxygen partial pressure on measured IVDF at different angles within the plasma pulse has been investigated.

Název v anglickém jazyce

Angle-resolved investigation of ion dynamics in high power impulse magnetron sputtering deposition system

Popis výsledku anglicky

The high power impulse magnetron sputtering deposition system (HiPIMS) equipped with 5 cm in diameter titanium target has been investigated by means of time-resolved modified Katsumata probe. The probe allows for determination of the ion velocity distribution function. Compact construction of modified Katsumata probe allows us to place the probe in an arbitrary position with respect to planar magnetron. The present construction of modified Katsumata probe allows reaching the acceptance angle of about 15°. The ion velocity distribution function (IVDF) in forward direction is then directly proportional to the derivative of measured ion current with respect to the retarding potential. An angle-resolved study of HiPIMS system operating in the reactive atmosphere has been carried out. The effect of oxygen partial pressure on measured IVDF at different angles within the plasma pulse has been investigated.

Druh

J_x - Nezařazeno - Článek v odborném periodiku (Jimp, Jsc a Jost)

CEP obor

BL - Fyzika plasmatu a výboje v plynech

OECD FORD obor

—

Projekt

LD12002: Výzkum hybridních HiPIMS systémů určených pro depozice nanostrukturovaných tenkých vrstev

Návaznosti

I - Institucionalni podpora na dlouhodoby koncepcni rozvoj vyzkumne organizace

Rok uplatnění

2013

Kód důvěrnosti údajů

S - Úplné a pravdivé údaje o projektu nepodléhají ochraně podle zvláštních právních předpisů

Název periodika

Thin Solid Films

ISSN

0040-6090

e-ISSN

—

Svazek periodika

549

Číslo periodika v rámci svazku

DEC

Stát vydavatele periodika

CH - Švýcarská konfederace

Počet stran výsledku

7

Strana od-do

177-183

Kód UT WoS článku

000327537100033

EID výsledku v databázi Scopus

—