Počítačové modelování RF výboje v argonovém plazmatu

Kód výsledku v IS VaVaI

<a href="https://www.isvavai.cz/riv?ss=detail&h=RIV%2F60076658%3A12410%2F07%3A00008077" target="_blank" >RIV/60076658:12410/07:00008077 - isvavai.cz</a>

Výsledek na webu

—

DOI - Digital Object Identifier

—

Jazyk výsledku

angličtina

Název v původním jazyce

Modelling of RF discharge in argon plasma

Popis výsledku v původním jazyce

An one-dimensional hybrid model of RF discharge in low-temperature argon plasma is presented in our paper. The hybrid model consists of two parts - particle model which simulates fast electrons while fluid model simulates slow electrons and positive argon ions. In the particle model the positions and velocities of fast electrons are calculated by means of deterministic Verlet algorithm while the collision processes are treated by the stochastic way. For the solution of fluid equations, for slow electrons and positive argon ions, the Scharfetter-Gummel exponential algorithm was used. Typical results of our calculations presented in this paper are total RF current and RF voltage waveforms on the planar substrate immersed into argon plasma. The next results which can be found here are the ion, electron and displacement current waveforms on the substrate. Especially, the knowledge of waveform of the ion current is very important for experimental physicists during the deposition of thin fil

Název v anglickém jazyce

Modelling of RF discharge in argon plasma

Popis výsledku anglicky

An one-dimensional hybrid model of RF discharge in low-temperature argon plasma is presented in our paper. The hybrid model consists of two parts - particle model which simulates fast electrons while fluid model simulates slow electrons and positive argon ions. In the particle model the positions and velocities of fast electrons are calculated by means of deterministic Verlet algorithm while the collision processes are treated by the stochastic way. For the solution of fluid equations, for slow electrons and positive argon ions, the Scharfetter-Gummel exponential algorithm was used. Typical results of our calculations presented in this paper are total RF current and RF voltage waveforms on the planar substrate immersed into argon plasma. The next results which can be found here are the ion, electron and displacement current waveforms on the substrate. Especially, the knowledge of waveform of the ion current is very important for experimental physicists during the deposition of thin fil

Druh

D - Stať ve sborníku

CEP obor

BL - Fyzika plasmatu a výboje v plynech

OECD FORD obor

—

Projekt

<a href="/cs/project/KAN101120701" target="_blank" >KAN101120701: Nanokompozitní vrstvy a nanočástice vytvářené v nízkotlakém plazmatu pro povrchové modifikace</a><br>

Návaznosti

P - Projekt vyzkumu a vyvoje financovany z verejnych zdroju (s odkazem do CEP)

Rok uplatnění

2007

Kód důvěrnosti údajů

S - Úplné a pravdivé údaje o projektu nepodléhají ochraně podle zvláštních právních předpisů

Název statě ve sborníku

In: Simos, T.E., Maroulis, G.: Proceedings of contributed papers - ICCMSE 2007

ISBN

978-0-7354-0478-6

ISSN

—

e-ISSN

—

Počet stran výsledku

4

Strana od-do

1240-1243

Název nakladatele

AIP, Melville, New York

Místo vydání

Corfu, Greece

Místo konání akce

—

Datum konání akce

—

Typ akce podle státní příslušnosti

—

Kód UT WoS článku

—