GRAPHENE PREPARATION BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION METHOD AND ITS BASIC PARAMETERS
Identifikátory výsledku
Kód výsledku v IS VaVaI
<a href="https://www.isvavai.cz/riv?ss=detail&h=RIV%2F60461373%3A22310%2F21%3A43923268" target="_blank" >RIV/60461373:22310/21:43923268 - isvavai.cz</a>
Výsledek na webu
—
DOI - Digital Object Identifier
—
Alternativní jazyky
Jazyk výsledku
angličtina
Název v původním jazyce
GRAPHENE PREPARATION BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION METHOD AND ITS BASIC PARAMETERS
Popis výsledku v původním jazyce
The presented text describes the properties of graphene, its preparation by a number of methods with the focus on the classical Chemical Vapour Deposition Method (CVD) on copper foil together with graphene transfer onto a dielectric substrate. It presents the results published by the author in a number of cited publications. It is thus an overview work, which can serve as a study material for those, who are beginning to get acquainted with graphene, its properties and preparation by the CVD method, which is frequently used in practice.
Název v anglickém jazyce
GRAPHENE PREPARATION BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION METHOD AND ITS BASIC PARAMETERS
Popis výsledku anglicky
The presented text describes the properties of graphene, its preparation by a number of methods with the focus on the classical Chemical Vapour Deposition Method (CVD) on copper foil together with graphene transfer onto a dielectric substrate. It presents the results published by the author in a number of cited publications. It is thus an overview work, which can serve as a study material for those, who are beginning to get acquainted with graphene, its properties and preparation by the CVD method, which is frequently used in practice.
Klasifikace
Druh
C - Kapitola v odborné knize
CEP obor
—
OECD FORD obor
20501 - Materials engineering
Návaznosti výsledku
Projekt
—
Návaznosti
I - Institucionalni podpora na dlouhodoby koncepcni rozvoj vyzkumne organizace
Ostatní
Rok uplatnění
2021
Kód důvěrnosti údajů
S - Úplné a pravdivé údaje o projektu nepodléhají ochraně podle zvláštních právních předpisů
Údaje specifické pro druh výsledku
Název knihy nebo sborníku
Chemical Vapor Deposition (CVD)
ISBN
978-1-5361-9949-9
Počet stran výsledku
31
Strana od-do
173-204
Počet stran knihy
204
Název nakladatele
Nova Science Publishers, Inc.
Místo vydání
New York
Kód UT WoS kapitoly
—