Physical and Gas Sensing Properties of NiO and TiO2 Films
Identifikátory výsledku
Kód výsledku v IS VaVaI
<a href="https://www.isvavai.cz/riv?ss=detail&h=RIV%2F60461373%3A22340%2F02%3A00007030" target="_blank" >RIV/60461373:22340/02:00007030 - isvavai.cz</a>
Výsledek na webu
—
DOI - Digital Object Identifier
—
Alternativní jazyky
Jazyk výsledku
angličtina
Název v původním jazyce
Physical and Gas Sensing Properties of NiO and TiO2 Films
Popis výsledku v původním jazyce
The NiO and TiO2 films were deposited by DC reactive magnetron sputtering from Ni and Ti targets on two types of substrates: Si and alumina. The microstructure and the composition of the films were analyzed using X-ray diffraction with Cu K alpha radiation in Bragg-Brentano geometry and grazing incident diffraction geometry. Surface topography of the films was examined by atomic force microscopy using a Topometrix Discover TM 2000 under normal air conditions. Films were tested in the presence of H2 andethylalcohol for their possible use in sensor applications.
Název v anglickém jazyce
Physical and Gas Sensing Properties of NiO and TiO2 Films
Popis výsledku anglicky
The NiO and TiO2 films were deposited by DC reactive magnetron sputtering from Ni and Ti targets on two types of substrates: Si and alumina. The microstructure and the composition of the films were analyzed using X-ray diffraction with Cu K alpha radiation in Bragg-Brentano geometry and grazing incident diffraction geometry. Surface topography of the films was examined by atomic force microscopy using a Topometrix Discover TM 2000 under normal air conditions. Films were tested in the presence of H2 andethylalcohol for their possible use in sensor applications.
Klasifikace
Druh
D - Stať ve sborníku
CEP obor
JB - Senzory, čidla, měření a regulace
OECD FORD obor
—
Návaznosti výsledku
Projekt
—
Návaznosti
Z - Vyzkumny zamer (s odkazem do CEZ)
Ostatní
Rok uplatnění
2002
Kód důvěrnosti údajů
S - Úplné a pravdivé údaje o projektu nepodléhají ochraně podle zvláštních právních předpisů
Údaje specifické pro druh výsledku
Název statě ve sborníku
5th Scientific Conference on Electrical Engineering and Information Technology
ISBN
neuveden
ISSN
—
e-ISSN
—
Počet stran výsledku
3
Strana od-do
66-68
Název nakladatele
Slovak University of Technology
Místo vydání
Bratislava
Místo konání akce
Bratislava
Datum konání akce
19. 9. 2002
Typ akce podle státní příslušnosti
EUR - Evropská akce
Kód UT WoS článku
—