Decoration of radiation damages in polyimide implanted with rare gas ions.

Kód výsledku v IS VaVaI

<a href="https://www.isvavai.cz/riv?ss=detail&h=RIV%2F61389005%3A_____%2F02%3A49020070" target="_blank" >RIV/61389005:_____/02:49020070 - isvavai.cz</a>

Výsledek na webu

—

DOI - Digital Object Identifier

—

Jazyk výsledku

angličtina

Název v původním jazyce

Decoration of radiation damages in polyimide implanted with rare gas ions.

Popis výsledku v původním jazyce

Polymide-Kapton (Pl) foils, 50 .mu.g thick were irradiated with 100 keV He.sup.+./sup., Ne.sup.+./sup., Ar.sup.+./sup.,Kr.sup.+./sup. and Xe.sup.+./sup. ions to the fluences from 1x10.sup.12./sup. to 1x10.sup.16./sup. cm.sup.-2./sup. and subsequently doped from 5 M/1 water solution of LiCl for 1 and 25 h at room temperature. The amount of incorporated LiCl dopant and its depth profiles were measured with non-destructive Neutron Depth Profiling (NDP) technique sensitive to sup.6./sup. Li isotope. The dopant uptake is a complikated function of the ion mass, ion fluence and the doping time. The depth profiles of the dopant in the PI samples irradiated to the fluences below 1x10.sup.13./sup. cm .sup.-2./sup. are similar to that from unirradiated PI. At higher fluences an anomalous profile component appears, the width of which correlates well with the ion projected range.

Název v anglickém jazyce

Decoration of radiation damages in polyimide implanted with rare gas ions.

Popis výsledku anglicky

Polymide-Kapton (Pl) foils, 50 .mu.g thick were irradiated with 100 keV He.sup.+./sup., Ne.sup.+./sup., Ar.sup.+./sup.,Kr.sup.+./sup. and Xe.sup.+./sup. ions to the fluences from 1x10.sup.12./sup. to 1x10.sup.16./sup. cm.sup.-2./sup. and subsequently doped from 5 M/1 water solution of LiCl for 1 and 25 h at room temperature. The amount of incorporated LiCl dopant and its depth profiles were measured with non-destructive Neutron Depth Profiling (NDP) technique sensitive to sup.6./sup. Li isotope. The dopant uptake is a complikated function of the ion mass, ion fluence and the doping time. The depth profiles of the dopant in the PI samples irradiated to the fluences below 1x10.sup.13./sup. cm .sup.-2./sup. are similar to that from unirradiated PI. At higher fluences an anomalous profile component appears, the width of which correlates well with the ion projected range.

Druh

J_x - Nezařazeno - Článek v odborném periodiku (Jimp, Jsc a Jost)

CEP obor

BG - Jaderná, atomová a molekulová fyzika, urychlovače

OECD FORD obor

—

Projekt

Výsledek vznikl pri realizaci vícero projektů. Více informací v záložce Projekty.

Návaznosti

P - Projekt vyzkumu a vyvoje financovany z verejnych zdroju (s odkazem do CEP)<br>Z - Vyzkumny zamer (s odkazem do CEZ)

Rok uplatnění

2002

Kód důvěrnosti údajů

S - Úplné a pravdivé údaje o projektu nepodléhají ochraně podle zvláštních právních předpisů

Název periodika

Surface and Coatings Technology

ISSN

0257-8972

e-ISSN

—

Svazek periodika

158/159

Číslo periodika v rámci svazku

N/A

Stát vydavatele periodika

US - Spojené státy americké

Počet stran výsledku

4

Strana od-do

391-394

Kód UT WoS článku

—

EID výsledku v databázi Scopus

—