Optimalizace a testování ITO vrstev

Kód výsledku v IS VaVaI

<a href="https://www.isvavai.cz/riv?ss=detail&h=RIV%2F61389021%3A_____%2F16%3A00473088" target="_blank" >RIV/61389021:_____/16:00473088 - isvavai.cz</a>

Výsledek na webu

—

DOI - Digital Object Identifier

—

Jazyk výsledku

čeština

Název v původním jazyce

Optimalizace a testování ITO vrstev

Popis výsledku v původním jazyce

Všechny depozice ITO probíhaly za pokojové teploty na BK7 substrát tloušťky 80 mm. Během, někdy i po depozici, se teplota v komoře mírně zvyšovala především při použití asistenčního děla, nikdy však nepřesáhla 40 °C. Rychlost odprašování je relativně vysoká, proto byly použity relativně nízké výkony primárního iontového děla (KDC). Optimalizovala se příprava bez i s použitím asistenčního iontového děla (IBAD) s kyslíkovým nebo kyslíkovo-argonovým výbojem. Rychlost depozice určena podle krystalového monitoru (CRY), reálná se mírně liší podle typu depozice. Tloušťky vrstev určeny na základě měření elipsometru. Odpor měřen přiložením kontaktů na okraje vzorku v prostředku podél homogenní tloušťky vrstvy.

Název v anglickém jazyce

Development of the process of ion beam sputtering of the ITO thin films

Popis výsledku anglicky

This report deals with ITO (indium tin oxide) deposition by ion-beam sputtering, and was custom-made for Crytur. All the depositions were performed at room temperature (i.e. without heating). Optimalization of ITO thin films was made without as well as with the assistant ion beam using oxygen or argon-oxygen discharge. Deposition rate was tracked in-situ by quartz crystal monitor. More precise determination of the film thickness was made after deposition by spectroscopic ellipsometry. Electrical resistance was also evaluated.n

Druh

V_souhrn - Souhrnná výzkumná zpráva

CEP obor

BH - Optika, masery a lasery

OECD FORD obor

—

Projekt

—

Návaznosti

N - Vyzkumna aktivita podporovana z neverejnych zdroju

Rok uplatnění

2016

Kód důvěrnosti údajů

S - Úplné a pravdivé údaje o projektu nepodléhají ochraně podle zvláštních právních předpisů

Počet stran výsledku

8

Místo vydání

Turnov

Název nakladatele resp. objednatele

Crytur

Verze

—