Disperzní interferometrie v bílém světle využitá pro měření tloušťky tenké vrstvy na substrátu

Kód výsledku v IS VaVaI

<a href="https://www.isvavai.cz/riv?ss=detail&h=RIV%2F61989100%3A27350%2F07%3A00016600" target="_blank" >RIV/61989100:27350/07:00016600 - isvavai.cz</a>

Výsledek na webu

—

DOI - Digital Object Identifier

—

Jazyk výsledku

angličtina

Název v původním jazyce

Dispersive white-light spectral interferometry used to measure thickness of a thin film on a substrate

Popis výsledku v původním jazyce

We present a white-light spectral interferometric technique for measuring the thickness of a thin film on a substrate. First, the spectral interferogram is expressed analytically for a setup of a slightly dispersive Michelson interferometer with a cube beam splitter and a fiber-optic spectrometer of a Gaussian response function when one of the interferometer mirrors is replaced by the thin film on the substrate. We reveal that the visibility of the spectral interference fringes is dependent on the reflectance of the thin-film structure and that the phase change on reflection from the structure is inscribed in the phase of the spectral interference fringes. We model the wavelength dependences of the reflectance and of the so-called nonlinear phase function for SiO2 thin film on a silicon wafer of known optical constants taking into account multiple reflection within the thin-film structure. Second, we perform experiments with the SiO2 thin film on the silicon wafer and record the spectr

Název v anglickém jazyce

Dispersive white-light spectral interferometry used to measure thickness of a thin film on a substrate

Popis výsledku anglicky

We present a white-light spectral interferometric technique for measuring the thickness of a thin film on a substrate. First, the spectral interferogram is expressed analytically for a setup of a slightly dispersive Michelson interferometer with a cube beam splitter and a fiber-optic spectrometer of a Gaussian response function when one of the interferometer mirrors is replaced by the thin film on the substrate. We reveal that the visibility of the spectral interference fringes is dependent on the reflectance of the thin-film structure and that the phase change on reflection from the structure is inscribed in the phase of the spectral interference fringes. We model the wavelength dependences of the reflectance and of the so-called nonlinear phase function for SiO2 thin film on a silicon wafer of known optical constants taking into account multiple reflection within the thin-film structure. Second, we perform experiments with the SiO2 thin film on the silicon wafer and record the spectr

Druh

D - Stať ve sborníku

CEP obor

BH - Optika, masery a lasery

OECD FORD obor

—

Projekt

<a href="/cs/project/GA202%2F06%2F0531" target="_blank" >GA202/06/0531: Reflexní a vlnovodné jevy v magnetických nanostrukturách</a><br>

Návaznosti

P - Projekt vyzkumu a vyvoje financovany z verejnych zdroju (s odkazem do CEP)

Rok uplatnění

2007

Kód důvěrnosti údajů

S - Úplné a pravdivé údaje o projektu nepodléhají ochraně podle zvláštních právních předpisů

Název statě ve sborníku

Proceedings of SPIE

ISBN

—

ISSN

0277-786X

e-ISSN

—

Počet stran výsledku

9

Strana od-do

66090-66090

Název nakladatele

SPIE-The International Society for Optical Engineering

Místo vydání

Bellingham

Místo konání akce

—

Datum konání akce

—

Typ akce podle státní příslušnosti

—

Kód UT WoS článku

—