ZrN nucleation layer provides backside ohmic contact to MBE-grown GaN nanowires
Identifikátory výsledku
Kód výsledku v IS VaVaI
<a href="https://www.isvavai.cz/riv?ss=detail&h=RIV%2F67985882%3A_____%2F25%3A00618619" target="_blank" >RIV/67985882:_____/25:00618619 - isvavai.cz</a>
Výsledek na webu
<a href="https://doi.org/10.1039/D5NR00321K" target="_blank" >https://doi.org/10.1039/D5NR00321K</a>
DOI - Digital Object Identifier
<a href="http://dx.doi.org/10.1039/d5nr00321k" target="_blank" >10.1039/d5nr00321k</a>
Alternativní jazyky
Jazyk výsledku
angličtina
Název v původním jazyce
ZrN nucleation layer provides backside ohmic contact to MBE-grown GaN nanowires
Popis výsledku v původním jazyce
Self-assembled GaN nanowires are typically grown on Si substrates with convenient nucleation layers. Light-emitting devices based on arrays of GaN nanowires require that the nucleation layer is electrically conductive and optically nontransparent to prevent the absorption of generated light in the Si substrate. This study reports the molecular beam epitaxial growth of GaN nanowires on ZrN nucleation layers sputtered on sapphire and demonstrates that ZrN provides ohmic contact to dense vertical arrays of n-type GaN nanowires. The ohmic nature of the ZrN/n-type GaN nanowire contact is evidenced by the measurement of the current-voltage characteristics of individual as-grown nanowires using nanomanipulators in a scanning electron microscope. The limitations and advantages of single-nanowire measurements are discussed, and approaches to overcome these limitations are proposed. The feasibility of this concept is demonstrated by the measurement of single nanowires with a p-n junction, exhibiting highly rectifying characteristics
Název v anglickém jazyce
ZrN nucleation layer provides backside ohmic contact to MBE-grown GaN nanowires
Popis výsledku anglicky
Self-assembled GaN nanowires are typically grown on Si substrates with convenient nucleation layers. Light-emitting devices based on arrays of GaN nanowires require that the nucleation layer is electrically conductive and optically nontransparent to prevent the absorption of generated light in the Si substrate. This study reports the molecular beam epitaxial growth of GaN nanowires on ZrN nucleation layers sputtered on sapphire and demonstrates that ZrN provides ohmic contact to dense vertical arrays of n-type GaN nanowires. The ohmic nature of the ZrN/n-type GaN nanowire contact is evidenced by the measurement of the current-voltage characteristics of individual as-grown nanowires using nanomanipulators in a scanning electron microscope. The limitations and advantages of single-nanowire measurements are discussed, and approaches to overcome these limitations are proposed. The feasibility of this concept is demonstrated by the measurement of single nanowires with a p-n junction, exhibiting highly rectifying characteristics
Klasifikace
Druh
J<sub>imp</sub> - Článek v periodiku v databázi Web of Science
CEP obor
—
OECD FORD obor
20201 - Electrical and electronic engineering
Návaznosti výsledku
Projekt
<a href="/cs/project/GF23-07585K" target="_blank" >GF23-07585K: Heterostruktury nanodrátů ZnO/(Al,Ga)N pro optoelektroniku</a><br>
Návaznosti
I - Institucionalni podpora na dlouhodoby koncepcni rozvoj vyzkumne organizace
Ostatní
Rok uplatnění
2025
Kód důvěrnosti údajů
S - Úplné a pravdivé údaje o projektu nepodléhají ochraně podle zvláštních právních předpisů
Údaje specifické pro druh výsledku
Název periodika
Nanoscale
ISSN
2040-3364
e-ISSN
2040-3372
Svazek periodika
17
Číslo periodika v rámci svazku
13
Stát vydavatele periodika
GB - Spojené království Velké Británie a Severního Irska
Počet stran výsledku
7
Strana od-do
8111-8117
Kód UT WoS článku
001436835300001
EID výsledku v databázi Scopus
2-s2.0-105001829594