Vše

Co hledáte?

Vše
Projekty
Výsledky výzkumu
Subjekty

Rychlé hledání

  • Projekty podpořené TA ČR
  • Významné projekty
  • Projekty s nejvyšší státní podporou
  • Aktuálně běžící projekty

Chytré vyhledávání

  • Takto najdu konkrétní +slovo
  • Takto z výsledků -slovo zcela vynechám
  • “Takto můžu najít celou frázi”

Mapování dopantů v polovodičích: studium pomocí PEEM

Identifikátory výsledku

  • Kód výsledku v IS VaVaI

    <a href="https://www.isvavai.cz/riv?ss=detail&h=RIV%2F68081731%3A_____%2F05%3A00022411" target="_blank" >RIV/68081731:_____/05:00022411 - isvavai.cz</a>

  • Výsledek na webu

  • DOI - Digital Object Identifier

Alternativní jazyky

  • Jazyk výsledku

    angličtina

  • Název v původním jazyce

    Mapping of Dopants in Semiconductors: The PEEM Study

  • Popis výsledku v původním jazyce

    High resolution imaging of doped areas in semiconductors with slow electrons is one of hot topics for both solid state physics and technology. Recent study employing the scanning low energy electron microscope demonstrated a high image contrast of dopants but only low attention has been devoted to the photoemission electron-microscopic (PEEM) imaging of these structures. Previous works ascribed the crucial role to local differences in the photoemission threshold while the present study claims the contrast more likely coming from local differences in absorption of hot electrons due to pair generation.

  • Název v anglickém jazyce

    Mapping of Dopants in Semiconductors: The PEEM Study

  • Popis výsledku anglicky

    High resolution imaging of doped areas in semiconductors with slow electrons is one of hot topics for both solid state physics and technology. Recent study employing the scanning low energy electron microscope demonstrated a high image contrast of dopants but only low attention has been devoted to the photoemission electron-microscopic (PEEM) imaging of these structures. Previous works ascribed the crucial role to local differences in the photoemission threshold while the present study claims the contrast more likely coming from local differences in absorption of hot electrons due to pair generation.

Klasifikace

  • Druh

    D - Stať ve sborníku

  • CEP obor

    JA - Elektronika a optoelektronika, elektrotechnika

  • OECD FORD obor

Návaznosti výsledku

  • Projekt

    <a href="/cs/project/GA202%2F04%2F0281" target="_blank" >GA202/04/0281: Mapování lokální hustoty stavů pomocí odrazu velmi pomalých elektronů při vysokém prostorovém rozlišení</a><br>

  • Návaznosti

    P - Projekt vyzkumu a vyvoje financovany z verejnych zdroju (s odkazem do CEP)

Ostatní

  • Rok uplatnění

    2005

  • Kód důvěrnosti údajů

    S - Úplné a pravdivé údaje o projektu nepodléhají ochraně podle zvláštních právních předpisů

Údaje specifické pro druh výsledku

  • Název statě ve sborníku

    Proceedings - Microscopy Conference 2005 - Dreiländertagung /6./

  • ISBN

    1019-6447

  • ISSN

  • e-ISSN

  • Počet stran výsledku

    1

  • Strana od-do

    321

  • Název nakladatele

    Paul Scherrer Institute

  • Místo vydání

    Villigen

  • Místo konání akce

    Davos

  • Datum konání akce

    28. 8. 2005

  • Typ akce podle státní příslušnosti

    WRD - Celosvětová akce

  • Kód UT WoS článku