Roční zpráva o řešení projektu MPO FR-TI1/574: Optimalizace výrobních postupů v elektronové litografií

Kód výsledku v IS VaVaI
<a href="https://www.isvavai.cz/riv?ss=detail&h=RIV%2F68081731%3A_____%2F10%3A00336662" target="_blank" >RIV/68081731:_____/10:00336662 - isvavai.cz</a>
Výsledek na webu
—
DOI - Digital Object Identifier
—

Jazyk výsledku
čeština
Název v původním jazyce
Roční zpráva o řešení projektu MPO FR-TI1/574: Optimalizace výrobních postupů v elektronové litografií
Popis výsledku v původním jazyce
Elektronový litograf BS600 je elektronově-optické zařízení s tvarovaným svazkem vyvinuté a optimalizované pro výrobu reliéfních mikrostruktur se submikronovým rozlišením. Cílem etapy projektu bylo rozšíření již dříve vyvíjeného expozičního režimu se zmenšeným svazkem tak, aby byl tento režim využitelný pro realizaci difraktivních struktur do celkové velikosti 30 mm x 30 mm. Tohoto cíle bylo dosaženo, jak popisuje předkládaná zpráva.
Název v anglickém jazyce
Annual report, project MPO FR-TI1/574: Optimization of production flow in electron-beam lithography and mastering
Popis výsledku anglicky
The e-beam writer BS600 is an electron-optical system with a shaped electron beam which was developed and optimized for production of relief microstructures with a sub-micron resolution. The goal of this project period is defined as follows: the extension of previously developed experimental exposure regime with a reduced stamp size should be extended to the production stage such that diffractive structures up to the size of 3 mm x 3 mm could be prepared. The goal was achieved; the results are summarized in this report.

Projekt
<a href="/cs/project/FR-TI1%2F574" target="_blank" >FR-TI1/574: Fotovoltaický panel nové generace</a><br>
Návaznosti
Z - Vyzkumny zamer (s odkazem do CEZ)

Rok uplatnění
2010
Kód důvěrnosti údajů
S - Úplné a pravdivé údaje o projektu nepodléhají ochraně podle zvláštních právních předpisů

Podobné výsledky(10)