Vše

Co hledáte?

Vše
Projekty
Výsledky výzkumu
Subjekty

Rychlé hledání

  • Projekty podpořené TA ČR
  • Významné projekty
  • Projekty s nejvyšší státní podporou
  • Aktuálně běžící projekty

Chytré vyhledávání

  • Takto najdu konkrétní +slovo
  • Takto z výsledků -slovo zcela vynechám
  • “Takto můžu najít celou frázi”

Mapping of dopants in silicon by injection of electrons

Identifikátory výsledku

  • Kód výsledku v IS VaVaI

    <a href="https://www.isvavai.cz/riv?ss=detail&h=RIV%2F68081731%3A_____%2F11%3A00367280" target="_blank" >RIV/68081731:_____/11:00367280 - isvavai.cz</a>

  • Výsledek na webu

  • DOI - Digital Object Identifier

Alternativní jazyky

  • Jazyk výsledku

    angličtina

  • Název v původním jazyce

    Mapping of dopants in silicon by injection of electrons

  • Popis výsledku v původním jazyce

    Scanning electron microscope belongs to viable tools for mapping the density of dopants in semiconductors. For probing the silicon structures usually the electron beam is used at energies around 1 keV because of high contrasts between differently doped areas. However, also the very low landing energy range has proven itself an efficient tool for mapping the dopants. We have focused on p-type structures of various dopant densities. Imaging by means of secondary electrons (SE) and its quantifiability hasbeen verified and the method was extended to very low energies where dynamical changes in the contrast have been observed.

  • Název v anglickém jazyce

    Mapping of dopants in silicon by injection of electrons

  • Popis výsledku anglicky

    Scanning electron microscope belongs to viable tools for mapping the density of dopants in semiconductors. For probing the silicon structures usually the electron beam is used at energies around 1 keV because of high contrasts between differently doped areas. However, also the very low landing energy range has proven itself an efficient tool for mapping the dopants. We have focused on p-type structures of various dopant densities. Imaging by means of secondary electrons (SE) and its quantifiability hasbeen verified and the method was extended to very low energies where dynamical changes in the contrast have been observed.

Klasifikace

  • Druh

    D - Stať ve sborníku

  • CEP obor

    JA - Elektronika a optoelektronika, elektrotechnika

  • OECD FORD obor

Návaznosti výsledku

  • Projekt

    Výsledek vznikl pri realizaci vícero projektů. Více informací v záložce Projekty.

  • Návaznosti

    P - Projekt vyzkumu a vyvoje financovany z verejnych zdroju (s odkazem do CEP)<br>Z - Vyzkumny zamer (s odkazem do CEZ)

Ostatní

  • Rok uplatnění

    2011

  • Kód důvěrnosti údajů

    S - Úplné a pravdivé údaje o projektu nepodléhají ochraně podle zvláštních právních předpisů

Údaje specifické pro druh výsledku

  • Název statě ve sborníku

    MC 2011 - Microscopy Conference Kiel

  • ISBN

    978-3-00-033910-3

  • ISSN

  • e-ISSN

  • Počet stran výsledku

    2

  • Strana od-do

    "IM7.P198:1"-"2"

  • Název nakladatele

    DGE

  • Místo vydání

    Kiel

  • Místo konání akce

    Kiel

  • Datum konání akce

    28. 8. 2011

  • Typ akce podle státní příslušnosti

    WRD - Celosvětová akce

  • Kód UT WoS článku