Vše

Co hledáte?

Vše
Projekty
Výsledky výzkumu
Subjekty

Rychlé hledání

  • Projekty podpořené TA ČR
  • Významné projekty
  • Projekty s nejvyšší státní podporou
  • Aktuálně běžící projekty

Chytré vyhledávání

  • Takto najdu konkrétní +slovo
  • Takto z výsledků -slovo zcela vynechám
  • “Takto můžu najít celou frázi”

Observation of high stressed hydrogenated carbon nitride films by SLEEM

Identifikátory výsledku

  • Kód výsledku v IS VaVaI

    <a href="https://www.isvavai.cz/riv?ss=detail&h=RIV%2F68081731%3A_____%2F12%3A00386392" target="_blank" >RIV/68081731:_____/12:00386392 - isvavai.cz</a>

  • Výsledek na webu

  • DOI - Digital Object Identifier

Alternativní jazyky

  • Jazyk výsledku

    angličtina

  • Název v původním jazyce

    Observation of high stressed hydrogenated carbon nitride films by SLEEM

  • Popis výsledku v původním jazyce

    Two main factors can lead to losing adhesion in thin sputtered carbon nitride films: high residual stress and absorption of humidity. Basically, two different types of stress can be identified in thin films: compressive stress and tensile stress. Compressive stress can lead to wrinkling and film delamination, and tensile stress can cause the fracturing of thin films. For reactive sputtering of hydrogenated carbon nitride films, the compressive stress is typical. The films were prepared from graphite target (high purity, 99.9999 %) in mixture of nitrogen and hydrogen discharge.

  • Název v anglickém jazyce

    Observation of high stressed hydrogenated carbon nitride films by SLEEM

  • Popis výsledku anglicky

    Two main factors can lead to losing adhesion in thin sputtered carbon nitride films: high residual stress and absorption of humidity. Basically, two different types of stress can be identified in thin films: compressive stress and tensile stress. Compressive stress can lead to wrinkling and film delamination, and tensile stress can cause the fracturing of thin films. For reactive sputtering of hydrogenated carbon nitride films, the compressive stress is typical. The films were prepared from graphite target (high purity, 99.9999 %) in mixture of nitrogen and hydrogen discharge.

Klasifikace

  • Druh

    D - Stať ve sborníku

  • CEP obor

    JA - Elektronika a optoelektronika, elektrotechnika

  • OECD FORD obor

Návaznosti výsledku

  • Projekt

  • Návaznosti

    I - Institucionalni podpora na dlouhodoby koncepcni rozvoj vyzkumne organizace

Ostatní

  • Rok uplatnění

    2012

  • Kód důvěrnosti údajů

    S - Úplné a pravdivé údaje o projektu nepodléhají ochraně podle zvláštních právních předpisů

Údaje specifické pro druh výsledku

  • Název statě ve sborníku

    Proceedings of the 13th International Seminar on Recent Trends in Charged Particle Optics and Surface Physics Instrumentation

  • ISBN

    978-80-87441-07-7

  • ISSN

  • e-ISSN

  • Počet stran výsledku

    2

  • Strana od-do

    43-44

  • Název nakladatele

    Institute of Scientific Instruments AS CR, v.v.i

  • Místo vydání

    Brno

  • Místo konání akce

    Skalský dvůr

  • Datum konání akce

    25. 6. 2012

  • Typ akce podle státní příslušnosti

    WRD - Celosvětová akce

  • Kód UT WoS článku