Field emission properties of sharp tungsten cathodes coated with a thin resilient oxide barrier
Identifikátory výsledku
Kód výsledku v IS VaVaI
<a href="https://www.isvavai.cz/riv?ss=detail&h=RIV%2F68081731%3A_____%2F21%3A00554500" target="_blank" >RIV/68081731:_____/21:00554500 - isvavai.cz</a>
Nalezeny alternativní kódy
RIV/00216305:26220/21:PU142355
Výsledek na webu
<a href="https://ieeexplore.ieee.org/document/9600704" target="_blank" >https://ieeexplore.ieee.org/document/9600704</a>
DOI - Digital Object Identifier
<a href="http://dx.doi.org/10.1109/IVNC52431.2021.9600704" target="_blank" >10.1109/IVNC52431.2021.9600704</a>
Alternativní jazyky
Jazyk výsledku
angličtina
Název v původním jazyce
Field emission properties of sharp tungsten cathodes coated with a thin resilient oxide barrier
Popis výsledku v původním jazyce
This research is aimed towards more in-depth understanding of field emission properties of tungsten single tip field emitters (STFEs) coated with tens of nanometer thin barrier of selected refractory oxides such as Al2O3. Introducing the additional barrier into metal-vacuum interface system of the emitter can be beneficial for an improvement of its performance. The pristine tungsten emitters were prepared using a two-step electrochemical drop-off etching technique. Thin oxide barriers were prepared by using low-temperature atomic layer deposition (ALD). Field emission was studied in field emission microscope (FEM) working in UHV vacuum (< 1x10(-7) Pa), experimental field emission data were analyzed by the so-called Murphy-Good plots, revealing the non-orthodox behavior of the prepared emitters.
Název v anglickém jazyce
Field emission properties of sharp tungsten cathodes coated with a thin resilient oxide barrier
Popis výsledku anglicky
This research is aimed towards more in-depth understanding of field emission properties of tungsten single tip field emitters (STFEs) coated with tens of nanometer thin barrier of selected refractory oxides such as Al2O3. Introducing the additional barrier into metal-vacuum interface system of the emitter can be beneficial for an improvement of its performance. The pristine tungsten emitters were prepared using a two-step electrochemical drop-off etching technique. Thin oxide barriers were prepared by using low-temperature atomic layer deposition (ALD). Field emission was studied in field emission microscope (FEM) working in UHV vacuum (< 1x10(-7) Pa), experimental field emission data were analyzed by the so-called Murphy-Good plots, revealing the non-orthodox behavior of the prepared emitters.
Klasifikace
Druh
D - Stať ve sborníku
CEP obor
—
OECD FORD obor
10302 - Condensed matter physics (including formerly solid state physics, supercond.)
Návaznosti výsledku
Projekt
Výsledek vznikl pri realizaci vícero projektů. Více informací v záložce Projekty.
Návaznosti
P - Projekt vyzkumu a vyvoje financovany z verejnych zdroju (s odkazem do CEP)
Ostatní
Rok uplatnění
2021
Kód důvěrnosti údajů
S - Úplné a pravdivé údaje o projektu nepodléhají ochraně podle zvláštních právních předpisů
Údaje specifické pro druh výsledku
Název statě ve sborníku
2021 34th International Vacuum Nanoelectronics Conference (IVNC)
ISBN
978-1-6654-2589-6
ISSN
2380-6311
e-ISSN
—
Počet stran výsledku
2
Strana od-do
(2021)
Název nakladatele
IEEE
Místo vydání
New York
Místo konání akce
online
Datum konání akce
5. 7. 2021
Typ akce podle státní příslušnosti
WRD - Celosvětová akce
Kód UT WoS článku
000742045500077