Effect Of Al2O3 Barrier On The Field Emission Properties Of Tungsten Single-Tip Field Emitters
Identifikátory výsledku
Kód výsledku v IS VaVaI
<a href="https://www.isvavai.cz/riv?ss=detail&h=RIV%2F68081731%3A_____%2F22%3A00568824" target="_blank" >RIV/68081731:_____/22:00568824 - isvavai.cz</a>
Výsledek na webu
<a href="https://www.eeict.cz/eeict_download/archiv/sborniky/EEICT_2022_sbornik_2_v3.pdf" target="_blank" >https://www.eeict.cz/eeict_download/archiv/sborniky/EEICT_2022_sbornik_2_v3.pdf</a>
DOI - Digital Object Identifier
—
Alternativní jazyky
Jazyk výsledku
angličtina
Název v původním jazyce
Effect Of Al2O3 Barrier On The Field Emission Properties Of Tungsten Single-Tip Field Emitters
Popis výsledku v původním jazyce
This research aims to obtain a more in-depth understanding of the field emission properties of tungsten single-tip field emitters (STFEs) coated with a several tens of nanometer thin barrier of Al2O3. The introduction of an additional barrier into the metal-vacuum interface system of the emitter can be beneficial to improve its performance. The tungsten emitters were prepared using a two-step electrochemical drop-off etching technique. Thin oxide barrier coatings were prepared by using low-temperature atomic layer deposition (ALD), a chemical vapor deposition technique. Field emission was studied in an internally developed field emission microscope (FEM) working in UHV vacuum (< 1·10−7 Pa), and the experimental field emission data were analyzed by the so-called Murphy-Good plotsThe value of the local work function of the grown oxide layer were investigated using Ultra-violet photoelectron spectroscopy (UPS).
Název v anglickém jazyce
Effect Of Al2O3 Barrier On The Field Emission Properties Of Tungsten Single-Tip Field Emitters
Popis výsledku anglicky
This research aims to obtain a more in-depth understanding of the field emission properties of tungsten single-tip field emitters (STFEs) coated with a several tens of nanometer thin barrier of Al2O3. The introduction of an additional barrier into the metal-vacuum interface system of the emitter can be beneficial to improve its performance. The tungsten emitters were prepared using a two-step electrochemical drop-off etching technique. Thin oxide barrier coatings were prepared by using low-temperature atomic layer deposition (ALD), a chemical vapor deposition technique. Field emission was studied in an internally developed field emission microscope (FEM) working in UHV vacuum (< 1·10−7 Pa), and the experimental field emission data were analyzed by the so-called Murphy-Good plotsThe value of the local work function of the grown oxide layer were investigated using Ultra-violet photoelectron spectroscopy (UPS).
Klasifikace
Druh
D - Stať ve sborníku
CEP obor
—
OECD FORD obor
10303 - Particles and field physics
Návaznosti výsledku
Projekt
—
Návaznosti
I - Institucionalni podpora na dlouhodoby koncepcni rozvoj vyzkumne organizace
Ostatní
Rok uplatnění
2022
Kód důvěrnosti údajů
S - Úplné a pravdivé údaje o projektu nepodléhají ochraně podle zvláštních právních předpisů
Údaje specifické pro druh výsledku
Název statě ve sborníku
Proceedings II of the 28th Conference STUDENT EEICT 2022. Selected Papers
ISBN
978-80-214-6030-0
ISSN
2788-1334
e-ISSN
—
Počet stran výsledku
4
Strana od-do
255-258
Název nakladatele
Brno University of Technology, Faculty of Electrical Engineering and Communication
Místo vydání
Brno
Místo konání akce
Brno
Datum konání akce
26. 4. 2022
Typ akce podle státní příslušnosti
CST - Celostátní akce
Kód UT WoS článku
—