Influence of nuclation parameters on growth of diamond thin films by hybrid hot filament CVD.

Kód výsledku v IS VaVaI

RIV/68378271:_____/03:02030320 - isvavai.cz

Výsledek na webu

—

DOI - Digital Object Identifier

—

Jazyk výsledku

angličtina

Název v původním jazyce

Influence of nuclation parameters on growth of diamond thin films by hybrid hot filament CVD.

Popis výsledku v původním jazyce

Diamond thin films have been deposited using a modified hot filament CVD method involving a dual-plasma reactor arrangement. This new design allows ignition of d.c. plasma above and/or below hot filaments. Thus, substrate bombardement by ions could be realized in the reverse biasing at as low voltages as 50V.

Název v anglickém jazyce

Influence of nuclation parameters on growth of diamond thin films by hybrid hot filament CVD.

Popis výsledku anglicky

Diamond thin films have been deposited using a modified hot filament CVD method involving a dual-plasma reactor arrangement. This new design allows ignition of d.c. plasma above and/or below hot filaments. Thus, substrate bombardement by ions could be realized in the reverse biasing at as low voltages as 50V.

Druh

J_x - Nezařazeno - Článek v odborném periodiku (Jimp, Jsc a Jost)

CEP obor

BM - Fyzika pevných látek a magnetismus

OECD FORD obor

—

Projekt

—

Návaznosti

Z - Vyzkumny zamer (s odkazem do CEZ)

Rok uplatnění

2003

Kód důvěrnosti údajů

S - Úplné a pravdivé údaje o projektu nepodléhají ochraně podle zvláštních právních předpisů

Název periodika

Diamond and Related Materials

ISSN

0925-9635

e-ISSN

—

Svazek periodika

12

Číslo periodika v rámci svazku

N/A

Stát vydavatele periodika

NL - Nizozemsko

Počet stran výsledku

5

Strana od-do

356-360

Kód UT WoS článku

—

EID výsledku v databázi Scopus

—