Použití laserového zdroje iontů pro technologii iontové implantace
Identifikátory výsledku
Kód výsledku v IS VaVaI
<a href="https://www.isvavai.cz/riv?ss=detail&h=RIV%2F68378271%3A_____%2F05%3A00025514" target="_blank" >RIV/68378271:_____/05:00025514 - isvavai.cz</a>
Výsledek na webu
—
DOI - Digital Object Identifier
—
Alternativní jazyky
Jazyk výsledku
angličtina
Název v původním jazyce
Application of laser ion source for ion implantation technology
Popis výsledku v původním jazyce
The laser-produced plasma has been used as a source of ions with different charge states and with different kinetic energies for ion implantation into various materials: metals, polymers and semiconductors, in order to modify their properties. The implantation depth was measured using Rutherford backscattering spectroscopy (RBS)
Název v anglickém jazyce
Application of laser ion source for ion implantation technology
Popis výsledku anglicky
The laser-produced plasma has been used as a source of ions with different charge states and with different kinetic energies for ion implantation into various materials: metals, polymers and semiconductors, in order to modify their properties. The implantation depth was measured using Rutherford backscattering spectroscopy (RBS)
Klasifikace
Druh
J<sub>x</sub> - Nezařazeno - Článek v odborném periodiku (Jimp, Jsc a Jost)
CEP obor
BH - Optika, masery a lasery
OECD FORD obor
—
Návaznosti výsledku
Projekt
—
Návaznosti
Z - Vyzkumny zamer (s odkazem do CEZ)
Ostatní
Rok uplatnění
2005
Kód důvěrnosti údajů
S - Úplné a pravdivé údaje o projektu nepodléhají ochraně podle zvláštních právních předpisů
Údaje specifické pro druh výsledku
Název periodika
Vacuum
ISSN
0042-207X
e-ISSN
—
Svazek periodika
78
Číslo periodika v rámci svazku
-
Stát vydavatele periodika
GB - Spojené království Velké Británie a Severního Irska
Počet stran výsledku
4
Strana od-do
435-438
Kód UT WoS článku
—
EID výsledku v databázi Scopus
—