Složení Ti-C:H filmů připravených pulzním a kontinuálním magnetronovým naprašováním

Kód výsledku v IS VaVaI

<a href="https://www.isvavai.cz/riv?ss=detail&h=RIV%2F68378271%3A_____%2F05%3A00030201" target="_blank" >RIV/68378271:_____/05:00030201 - isvavai.cz</a>

Výsledek na webu

—

DOI - Digital Object Identifier

—

Jazyk výsledku

angličtina

Název v původním jazyce

Composition of Ti-C:H films obtained by pulsed and continuous magnetron sputtering

Popis výsledku v původním jazyce

The Ti-C:H films have been prepared by reactive pulsed and continuous DC magnetron sputtering of the Ti target in a gas mixture of Ar and CH4. For continuous sputtering, the discharge power was 300, 950 and 2850 W. At pulsed sputtering, the average discharge power was about 950 W in most depositions, while pulse power was varied from 2850 to 13000 W. The composition of the obtained films depended very strongly on the power for continuous discharge and only slightly on the pulse power at constant averagepower. In the latter case the film composition depended on pulse duration, CH4/Ar ratio and, in general, did not coincide with that obtained by continuous sputtering at the same power

Název v anglickém jazyce

Composition of Ti-C:H films obtained by pulsed and continuous magnetron sputtering

Popis výsledku anglicky

The Ti-C:H films have been prepared by reactive pulsed and continuous DC magnetron sputtering of the Ti target in a gas mixture of Ar and CH4. For continuous sputtering, the discharge power was 300, 950 and 2850 W. At pulsed sputtering, the average discharge power was about 950 W in most depositions, while pulse power was varied from 2850 to 13000 W. The composition of the obtained films depended very strongly on the power for continuous discharge and only slightly on the pulse power at constant averagepower. In the latter case the film composition depended on pulse duration, CH4/Ar ratio and, in general, did not coincide with that obtained by continuous sputtering at the same power

Druh

J_x - Nezařazeno - Článek v odborném periodiku (Jimp, Jsc a Jost)

CEP obor

BM - Fyzika pevných látek a magnetismus

OECD FORD obor

—

Projekt

Výsledek vznikl pri realizaci vícero projektů. Více informací v záložce Projekty.

Návaznosti

Z - Vyzkumny zamer (s odkazem do CEZ)

Rok uplatnění

2005

Kód důvěrnosti údajů

S - Úplné a pravdivé údaje o projektu nepodléhají ochraně podle zvláštních právních předpisů

Název periodika

Surface and Coatings Technology

ISSN

0257-8972

e-ISSN

—

Svazek periodika

200

Číslo periodika v rámci svazku

1-4

Stát vydavatele periodika

CH - Švýcarská konfederace

Počet stran výsledku

5

Strana od-do

620-624

Kód UT WoS článku

—

EID výsledku v databázi Scopus

—