Přímá implantace Ge iontů, produkovaných laserovými pulsy o velké energii a nízké intensitě, do SiO2 vrstev na Si podložkách

Kód výsledku v IS VaVaI

<a href="https://www.isvavai.cz/riv?ss=detail&h=RIV%2F68378271%3A_____%2F06%3A00054548" target="_blank" >RIV/68378271:_____/06:00054548 - isvavai.cz</a>

Výsledek na webu

—

DOI - Digital Object Identifier

—

Jazyk výsledku

angličtina

Název v původním jazyce

Direct implantation of Ge ions produced by high-energy low-intensity laser pulses into SiO2 films prepared on Si substrates

Popis výsledku v původním jazyce

Due to the development and growing demends for inplantation techniques, the laser plasma as a source of multiply charged ions been investigated. This experiment concerned the characterization and optimization of laser produced Ge ion fluxes as well as the analysis of the direct implantation of these ions into SiO2 films prepared on the surface of a Si single crystal in the bulk profiles of Ge ion implantation with maximum depth of similar to 450 nm

Název v anglickém jazyce

Direct implantation of Ge ions produced by high-energy low-intensity laser pulses into SiO2 films prepared on Si substrates

Popis výsledku anglicky

Due to the development and growing demends for inplantation techniques, the laser plasma as a source of multiply charged ions been investigated. This experiment concerned the characterization and optimization of laser produced Ge ion fluxes as well as the analysis of the direct implantation of these ions into SiO2 films prepared on the surface of a Si single crystal in the bulk profiles of Ge ion implantation with maximum depth of similar to 450 nm

Druh

J_x - Nezařazeno - Článek v odborném periodiku (Jimp, Jsc a Jost)

CEP obor

BH - Optika, masery a lasery

OECD FORD obor

—

Projekt

<a href="/cs/project/LC528" target="_blank" >LC528: Centrum laserového plazmatu</a><br>

Návaznosti

Z - Vyzkumny zamer (s odkazem do CEZ)

Rok uplatnění

2006

Kód důvěrnosti údajů

S - Úplné a pravdivé údaje o projektu nepodléhají ochraně podle zvláštních právních předpisů

Název periodika

Physica Scripta

ISSN

0031-8949

e-ISSN

—

Svazek periodika

T123

Číslo periodika v rámci svazku

-

Stát vydavatele periodika

SE - Švédské království

Počet stran výsledku

4

Strana od-do

148-181

Kód UT WoS článku

—

EID výsledku v databázi Scopus

—